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調子の解決は TSMC 20 nm デザイン下部組織に選びました

Published on October 17, 2012 at 3:26 AM

TSMC が 20 ナノメーターデザイン下部組織に Cadence® の解決を選んだことを調子の設計システム、今日発表される全体的な電子デザイン革新のリーダー。 解決は Encounter® の Virtuoso® の習慣/アナログおよび RTL にサイン・オフプラットホームをカバーします。

TSMC の 20 ナノメーターの参照の流れは重要なワイヤー特性、タイミングの閉鎖およびデザインサイズの考察を最近考慮に入れる遭遇および名人両方の新しい機能そして方法を組み込みます。

カスタム/アナログデザイナーのために、名人の技術サポートの OpenAccess の業界標準のデータベースの新しい 20 ナノメーターの抑制は、 G0 規則を含んで、カラーわかっているレイアウト、抑制主導の前カラリング流れのための対話型のカラリング、ローカル相互接続のための異様サイクルのループ防止および検出、 Pcell の高度の迫台およびサポート層になります。 調子統合物理的な確認システムは名人のプラットホーム内の調子の物理的な確認システムを統合する内部デザイン技術です。

サポート 20 ナノメーターのルーラー RTL にGDSII デジタルデザイナー、遭遇、正しによ構築の配置および経路指定の FlexColor の新しい二重の模造の技術、およびより短い送受反転時間の結果の良質のための遭遇のデジタル実施 (EDI)システムの GigaOpt の最適化と遭遇 RTL コンパイラーのため。

サインオフのために、調子の遭遇のタイミングシステムは RC の抽出を二重模造するための高度の波形の模倣および複数値 SPEF を提供します。 調子 QRC の抽出は LEF/DEF および GDSII の両方流れをサポートする DPT わかっているコーナーの抽出の技術を提供します。 20 ナノメーターの二重模造およびインクレメンタル DRC の訂正の調子の物理的な確認システム提供サポート、および TSMC の規則はデッキ物理的な確認システムのために今使用できます。 遭遇のパワー系統は正確提供します、基本的で、複雑な位層幾何学依存した EM は支配し、 Litho の物理的な検光子および Litho の電気検光子はホットスポットの分析のための 20 ナノメーターモデルとアップデートされ、修理します。

最後に、 TSMC はのための調子の技術をカスタム設計します共通の技術のセットアップされ、統合された並行アナログおよびデジタルレイアウトを通して習慣およびデジタル式に助けられたアナログ回路を設計するための方法を示す参照の流れを採用しました。

「調子今日の複雑なデザインの大きな挑戦に取り組む必要がある技術を私達の顧客に与えることに焦点を合わせます低い電力の消費のような」、は先生を調子のケイ素の認識のグループの上席副社長言いましたキー Ping Hsu。 「私達は TSMC を密接に使用して、 20 ナノメーターの挑戦に広範囲の解決を開発する私達の相互顧客は設計します。 私達の名人および遭遇の 20 ナノメーターの技術は一義的に最も挑戦的な低電力混合されシグナルチップを」。アドレス指定する統一された流れを提供するために統合されます

「20 ナノメーターの条件を達成するためにデザイン・ツールに装備することは近い共同だけによって達成することができる複雑な努力を」言いましたデザイン下部組織のマーケティングの年長ディレクター、 TSMC、 Suk リーをです。 「20 ナノメータープロセスはプロセスノードが準備ができているとすぐ新しいアプローチが生態系を生産デザインの開始の準備ができたようにするように要求しました。 調子の私達の共同は完全な混合されシグナルおよびデジタル流れを二重模造のための条件が実行され、認可されることを保障するカバーしました。 これはこの新しいプロセスノードを」。利用するように私達の相互顧客が働くチップをできるだけすぐに達成するのを助けます

ソース: http://www.cadence.com

Last Update: 17. October 2012 04:22

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