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As Soluções da Cadência Seleccionaram para a Infra-estrutura do Projecto do TSMC 20 nanômetro

Published on October 17, 2012 at 3:26 AM

Sistemas de Projecto da Cadência, um líder na inovação eletrônica global do projecto, anunciada hoje que o TSMC seleccionou soluções de Cadence® para sua infra-estrutura de um projecto de 20 nanômetros. As soluções cobrem o costume de Virtuoso®/analog e as plataformas RTL-à-de término de Encounter®.

Fluxos da referência do nanômetro do TSMC os 20 incorporam características e as metodologias novas no Encontro e no Virtuoso que levam em consideração recentemente características importantes do fio, o fechamento cronometrando e as considerações do tamanho do projecto.

Para desenhista feito sob encomenda/análogo, limitações novas do nanômetro dos apoios de tecnologia do Virtuoso as 20 na base de dados de OpenAccess do padrão do sector, incluindo as regras G0, coloração interactiva para a disposição cor-ciente, um fluxo limitação-conduzido da pre-coloração, prevenção e detecção do laço do impar-ciclo, limite avançado de Pcell e apoio para a interconexão local mergulham. O Sistema Físico Integrado Cadência da Verificação é uma tecnologia do em-projecto que integre o Sistema Físico da Verificação da Cadência dentro da plataforma do Virtuoso.

Para o desenhista digital, o Encontro RTL--GDSII aos apoios 20 regras do nanômetro, a tecnologia de modelação dobro nova de FlexColor para a colocação e o roteamento da correcto-por-construção, e o Compilador do Encontro RTL mais a optimização de GigaOpt do Sistema da Aplicação de Digitas (EDI) do Encontro para a melhor qualidade dos resultados com um tempo de resposta mais curto.

Para o fim de conexão, o Sistema Cronometrando do Encontro da Cadência oferece modelagem avançada da forma de onda e SPEF multi-avaliado para dobro-modelar a extracção de RC. A Extracção da Cadência QRC entrega uma tecnologia DPT-ciente da extracção dos cantos que apoie fluxos de LEF/DEF e de GDSII. O apoio Físico das ofertas do Sistema da Verificação da Cadência da dobro-modelação do nanômetro 20 e da correcção incremental do MANUAL DO TRANSPORTADOR, e da regra do TSMC plataformas estão agora disponíveis para o Sistema Físico da Verificação. O Sistema De Energia Do Encontro fornece exacto, o EM topologia-dependente básico e complexo ordena, e o Analisador Físico de Litho e o Analisador Elétrico de Litho foram actualizados com 20 modelos do nanômetro para a análise do ponto quente e reparam.

Finalmente, o TSMC adotou a tecnologia da Cadência para o seu Projecta o Fluxo da Referência, que demonstra uma metodologia para projetar o costume e circuitos análogos digital ajudados através da disposição análoga e digital simultânea setup e integrada comum da tecnologia.

A “Cadência é centrada sobre fornecer nossos clientes as tecnologias que precisam de abordar os desafios os mais grandes com projectos complexos de hoje, tais como o consumo da baixa potência,” disse o Dr. Qui-Sibilo Hsu, vice-presidente superior do Grupo da Realização do Silicone na Cadência. “Nós temos trabalhado pròxima com TSMC e nossos clientes mútuos para desenvolver soluções detalhadas aos desafios de um projecto de 20 nanômetros. Nosso Virtuoso e Encontra 20 tecnologias do nanômetro é integrado excepcionalmente para entregar um fluxo unificado que enderece as microplaquetas as mais desafiantes do sinai ambíguo da baixa potência.”

“Equipar ferramentas de projecto para cumprir 20 exigências do nanômetro é um esforço complexo que possa ser conseguido somente com a colaboração próxima,” disse o Lee de Suk, director superior do Mercado da Infra-estrutura do Projecto, TSMC. “O processo de 20 nanômetros exigiu uma aproximação nova fazer o ecossistema pronto para o começo de projectos da produção assim que o nó do processo estivesse pronto. Nossa colaboração com Cadência cobriu o sinai ambíguo completo e fluxos digitais assegurar-se de que as exigências para a modelação dobro estivessem executadas e validadas. Isto ajudará nossos clientes mútuos a conseguir o mais rapidamente possível microplaquetas de trabalho enquanto se aproveitam deste nó do processo novo.”

Source: http://www.cadence.com

Last Update: 17. October 2012 04:23

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