Предварительные Противоотражающие Покрытия Сделанные из Фотоэлементов Высокой эффективности Продукции Помощи Nanomaterials

Published on October 29, 2012 at 6:00 AM

Эффективность Фотогальванического элемента может скоро получить большое подталкивание, спасибо противоотражающие покрытия следующего поколени произведенные от nanomaterials способных резать вниз на количестве света отраженном далеко от поверхности клетки.

Материалы похваляясь «настраиваемый» R.I. были начаты в пределах прошлого немногие леты, и они показывают большущий потенциал для фотовольтайческих применений. Профессор E. Фред Schubert, Отдела Политехнического Института Rensselaer Электрического, Компьютер, и Системы Инджиниринг, расследует пути эксплуатировать это заново приобретенная управляемость и представит его заключения на предстоящее Симпозиуме и Выставке AVS 59th Международном, котор держат 28-ое Октября-2-ого Ноября, в Тампа, Fla.

R.I. свойство материала который изменяет скорость света, и вычислен как коэффициент скорости света в вакууме к скорости света через материал. Среди самых основных свойств оптически материалов, R.I. определяет важные оптически характеристики как отражение Fresnel, отражение Bragg, рефракция Snell, огибание, и участок и групповая скорость света.

Воздух и другие газы имеют R.I. очень близко к 1,0, но несчастливо не жизнеспособны для тонкопленочных электронно-оптический применений. Среди прозрачных плотных материалов соответствующих для пользы в тонкопленочных электронно-оптический применениях, фторид магния (MgF2) имеет самый низкий R.I. (n=1.39); не знаны, что существуют никакие плотные материалы с более низким R.I.

В действительности, ибо много лет ряд между остали 1,0 и 1,39, котор неисследовательн. Но с появлением материалов настраиваемый-рефрактивн-индекса, то изменяет. Исследование Schubert основано на портняжничать прозрачные тонкопленочные материалы R.I. которых можно контролировать.

«Оптически тонкопленочные материалы с R.I. как низким по мере того как 1,05 были продемонстрированы. материалы Настраиваемый-рефрактивн-Индекса основаны на «nanoporous» двуокиси двуокиси кремния (SiO2), окиси (ITO) инди-олова, и titanium (TiO2), и мы можем точно контролировать пористость путем использование низложения вкосую-угла - метод в котором субстрат на non-нормальном угле падения по отношению к источнику низложения,» говорит Schubert.

Schubert и коллегаы использовали эти материалы для того чтобы конструировать и изготовить четырехслойное противоотражающее покрытие. «Процесс изготовления этого покрытия аддитивен и чисто физическ, поэтому он полно - совместимо с настоящими процессами производства фотоэлементов,» он замечает. «Наш ориентированный на заказчика подход охотно одалживает к внесению конструкции противоотражающего покрытия в структуры прибора фотоэлемента для специфических для приложения требований.»

Это четырехслойное противоотражающее покрытие жизнеспособно, посыл охотно применимых, и выставок большой для будущих поколений технологии противоотражающего покрытия на приборах фотоэлемента.

Источник: http://www.aip.org

Last Update: 29. October 2012 06:33

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit