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Attolight 的扮演關鍵角色的陰極發光顯微學在聯合開發程序與 CEALeti

Published on October 29, 2012 at 6:06 AM

Attolight 和 CEALeti 今天宣佈他們加入聯接發展程序運用 Attolight 的陰極發光顯微學於半導體材料。

電子和光學顯微學的 Attolight 的創新組合顯示超跟蹤雜質和晶體缺陷不可視使用其他成像技術。 公司的核心專門技術是稱陰極發光的計量技術,產生提供對物質結構和屬性的更加深刻的理解數據的級別一個非破壞性的描述特性方法。 與 Leti 的程序被設計擴大技術用於籌碼行業和研究應用。

「與 CEALeti 的此聯接發展程序是 Attolight 的一個主要重要事件。 它是 Attolight 的創新技術的值的一個清晰指示器科技目前進步水平研究的對各種各樣的應用」, CEO 塞繆爾 Sonderegger 說 Attolight。 「我們非常自豪地與這樣一個有名望的合作夥伴合作,并且此發展明顯地支持 Attolight 的產品的質量」。

」我們的集成陰極發光途徑開張新的調查區域研究與開發小組的。 第一次在市場, Attolight 的非破壞性的方法生成定量高分辨率陰極發光數據為高級材料研究」, Attolight 的副總統說 Olivier Gougeon,銷售額和市場營銷。 「此聯合開發程序將加速 Attolight 的產品投資組合組合,并且支持公司的全球方法提供創新描述特性工具、服務和專門技術給半導體行業和研究實驗室」。

「陰極發光顯微學的簡介在先進的描述特性技術我們的投資組合的是根據我們的模式,并且做的可能的由於法國 RTB 程序」,程序管理器說 Narciso Gambacorti, Leti 的 nanocharacterization。 「此新的設備將完成唯一聘用根據材料分析已經可用在國際水平的 nanocharacterization 平臺 (PFNC) 存在 MINATEC 校園。 Attolight 的經驗在材料分析和陰極發光領域在 Leti 將極大,特別是,加速此技術的簡介。

來源: http://www.leti.fr

Last Update: 29. October 2012 06:28

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