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基本层证言设备制造商连接中国芬兰纳诺创新中心

Published on November 5, 2012 at 3:36 AM

Picosun Oy,主导的基本层证言 (ALD)设备制造商连接中国芬兰纳诺创新中心,被开放 2012年 11月 2日,由 H.E. Wan Gang 先生的高尚的客户,科学技术的中国的大臣和 H.E. Jyri Hakamieses,经济事务芬兰的大臣先生。

这个中心,位于市苏州,江苏省在华东地区,被科学技术部 (多数) 中国和部雇佣和芬兰的经济 (TEM)启动。

“Picosun 有效地启动在学术界和行业之间的协作在 ALD 的域在芬兰和中国之间的。 是自然的我们在纳米技术方面参加所有项目在芬兰中国创新联盟的框架下。 Picosun 是输入纳诺创新中心的第一家芬兰公司。 中心将是中国的迅速发展的 ALD 社区的一视窗能存取最先进的 ALD 技术,并且它进一步将加强 Picosun 的技术领导。 我盼望 ALD 技术的工业化在中国”,主任和 CEO 说韦分钟李博士, Picosun 的应用 Picosun 亚洲 Pte 的。 有限公司.

Picosun Oy 是科技目前进步水平 ALD 系统一个基于芬兰的,全世界运行的制造商,几乎表示连续性对四十年作早期工作在的,独有和开创性 ALD 反应器设计和制造。 Picosun 的全球总部位于 Espoo,芬兰,其生产设施在 Kirkkonummi,芬兰,美国总部在底特律、密执安和其亚洲总部在新加坡。 今天, PICOSUN™ ALD 系统在日产量和 R&D 使用在许多突出的行业和研究组织在四个大陆间。

来源: http://www.picosun.com/

Last Update: 5. November 2012 04:37

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