Neues Masken-Defekt-Zusammenfassungs-Hilfsmittel von Advantest für Hoch entwickelte Fotomasken

Published on November 16, 2012 at 6:32 AM

Advantest Corporation kündigte heute an, dass es ein neues Maskendefekt-Zusammenfassungshilfsmittel, die Maske DR-SEM E5610, für die Überprüfung und das Tarifieren von ultra-kleinen Defekten in den Fotomaskenabdeckungen entwickelt hat.

MASKE DR-SEM E5610 (Foto: Business Wire)

Das E5610 erbt die in hohem Grade stabile, vollautomatische Bilderfassungstechnologie, die durch Advantest für seine beifallswürdige multi Visionsmetrologie SEM für Fotomasken entwickelt wird und kennzeichnet eine neuentwickelte Trägerneigungsvorrichtung, die Scannen in den schiefen Winkeln aktiviert. Mit seiner Hochgenauigkeit wird Hochdurchsatz Defekt-Zusammenfassungsfähigkeit, das E5610 erwartet, um zur zukünftigen Fotomaskenprodukt-Qualitätsverbesserung und zu kürzerer HerstellungsAUSSENTEMPERATUR (Durchlaufzeiten) beizutragen.

Das E5610 wird in Advantests Ausstellung gekennzeichnet (Stand #3D-803 in Hall 3) an der Messe SEMICON Japan, 5.-7. Dezember in Makuhari Messe in der Präfektur Chiba.

Eine zukünftige Fotomasken-Herstellungs-Lösung

 FotomaskenHerstellungsverfahren benötigen Ausrottung 100% von tödlichen Defekten, die nachteilig Ertrag beeinflussen, mit AUSSENTEMPERATUR-Reduzierung. Advantests neues E5610 verspricht, eine unentbehrliche Lösung für Maskenhersteller zu sein und wird beiden Anforderungen mit schneller, genauer Technologie gerecht, die Defekte tarifiert und passende Reparaturlösungen hinsichtlich des Baumusters bestimmt.

Produkt Merkmale

Hohe Ortsauflösung u. Schiefe Scannen-Fähigkeit

Advantests entbindet eigene Spaltenarchitektur Ortsauflösung unten an 2nm, sogar an den niedrigen Beschleunigungsspannungen, die für Fotomaskenscreening passend sind. Außerdem kennzeichnet das E5610 einen eindeutigen, elektrisch gesteuerten Neigungsblock, der seinen Träger durch bis zu 15° kippen lässt und aktiviert Benutzer, Zusammenfassungen des Defektes durchzuführen 3D.

In Hohem Grade Stabile, Vollautomatische Bild-Erfassung

Selbst wenn, bedienend an hoher SEM-Vergrößerung, das E5610 stabile, vollautomatische Defektdarstellung mit einer hohen Kinetik des Durchsatzes durchführt, positionieren dank seine Hochgenauigkeit, Ladungskontrollfunktion und Verunreinigungsreduzierungstechnologie.

Kompatibel Mit Masken-Kontrollsystemen

Das E5610 ist mit Mainstreammaskenkontrollsystemen kompatibel: das Hilfsmittel importiert Defekteinbauortdaten und automatisch -bilder die Einbauorte. Es unterstützt das industriekompatible Format KLARF (KLA Resultiert Feile).

Elementare Zusammensetzungs-Analyse-Option

Das E5610 kennzeichnet einen wahlweise Block EDS (Energie dispersive Röntgenstrahlspektrometrie), der elementare Analyse-ein fortgeschrittene Methode des Abbildens von leeren Defekten der Maske durchführt.

Quelle: http://www.advantest.com

Last Update: 16. November 2012 07:48

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