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Nueva Herramienta de la Revista del Defecto de la Máscara de Advantest para los Photomasks Avanzados

Published on November 16, 2012 at 6:32 AM

Advantest Corporation anunció hoy que ha desarrollado una nueva herramienta de la revista del defecto de la máscara, la Máscara DR-SEM E5610, para revisar y clasificar ultra-pequeños defectos en espacios en blanco del photomask.

MÁSCARA DR-SEM E5610 (Foto: Business Wire)

El E5610 hereda la tecnología altamente estable, completamente automática de la captura de la imagen desarrollada por Advantest para su metrología multi aclamada SEM de la visión para los photomasks, y ofrece un mecanismo desarrollado recientemente de la inclinación del haz que active la exploración a los ángulos oblicuos. Con su alto-exactitud, se prevee que la capacidad de la revista del defecto de la alto-producción, el E5610 contribuya a la mejoría y a un TAT de fabricación más corto (tiempos de la calidad del producto del photomask de la siguiente-generación de apartadero).

El E5610 será ofrecido en la pieza de convicción de Advantest (cabina #3D-803 en Pasillo 3) en la feria profesional de SEMICON Japón, 5-7 de diciembre en Makuhari Messe en la prefectura de Chiba.

Una Solución de la Fabricación del Photomask de la Siguiente-Generación

 Los procesos de fabricación del Photomask requieren la erradicación 100% de los defectos fatales, que afectan al contrario al rendimiento, con la reducción del TAT. El nuevo E5610 de Advantest promete ser una solución imprescindible para los fabricantes de la máscara, satisfaciendo ambos requisitos con la tecnología rápida, exacta que clasifica defectos y diagnostica soluciones apropiadas de la reparación con respecto a tipo.

Características de Producto

Alta Resolución Espacial y Capacidad Oblicua de la Exploración

La configuración propietaria de la olumna de Advantest entrega la resolución espacial hacia abajo a 2nm, incluso en los voltajes de aceleración inferiores apropiados para la investigación del photomask. Por Otra Parte, el E5610 ofrece un módulo único, eléctricamente controlado de la inclinación que permita que su haz incline por hasta 15°, permitiendo a utilizadores realizar revistas del defecto 3D.

Captura Altamente Estable, Completamente automática de la Imagen

Incluso cuando operatorio en la alta magnificación de SEM, el E5610 realiza proyección de imagen estable, completamente automática del defecto a una alta tasa de producción, los gracias a su alto-exactitud efectúan, función de mando de la carga, y tecnología de la reducción de la contaminación.

Compatible Con los Sistemas de Inspección de la Máscara

El E5610 es compatible con los sistemas de inspección de la máscara de la corriente principal: la herramienta importa datos y automáticamente imágenes de la ubicación del defecto las ubicaciones. Utiliza el formato del estándar industrial KLARF (KLA Resulta Fichero).

Opción Elemental del Análisis de la Composición

El E5610 ofrece un módulo opcional del EDS (espectrometría dispersiva de la Radiografía de la energía) que realice el método avance análisis-uno elemental de correlacionar defectos enes blanco de la máscara.

Fuente: http://www.advantest.com

Last Update: 16. November 2012 07:51

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