Outil Neuf de Révision de Défaut de Masque d'Advantest pour les Photomasks Avancés

Published on November 16, 2012 at 6:32 AM

Advantest Corporation a aujourd'hui annoncé qu'il a développé un outil neuf de révision de défaut de masque, le Masque DR-SEM E5610, pour réviser et classifier des défauts d'ultra-petit en blancs de photomask.

MASQUE DR-SEM E5610 (Photo : Business Wire)

L'E5610 hérite de la technologie hautement stable et complètement automatique de capture d'images développée par Advantest pour sa métrologie multi acclamée SEM de visibilité pour des photomasks, et comporte un mécanisme developpé récemment d'inclinaison de poutre qui active la lecture aux cornières obliques. Avec son de grande précision, on s'attend à ce que la capacité de révision de défaut de haut-débit, l'E5610 contribue à l'amélioration de la deuxième génération de qualité des produits de photomask et aux FRIPES plus courtes de fabrication (temps de basculement).

L'E5610 sera décrit dans le document d'Advantest (cabine #3D-803 en Hall 3) au salon commercial de SEMICON Japon, 5-7 décembre à Makuhari Messe en préfecture de Chiba.

Une Solution De La Deuxième Génération de Fabrication de Photomask

 Les processus de fabrication de Photomask exigent l'éradication 100% des défauts mortels, qui compromettent le rendement, en tandem avec la réduction de FRIPES. L'E5610 neuf d'Advantest promet d'être une solution indispensable pour des constructeurs de masque, répondant à chacun des deux exigences avec la technologie rapide et précise qui classifie des défauts et les diagnostics s'approprient des solutions de réglage en ce qui concerne le type.

Caractéristiques des Produits

Résolution Spatiale Élevée et Capacité Oblique de Lecture

L'architecture de propriété industrielle du fléau d'Advantest fournit la résolution spatiale vers le bas à 2nm, même aux tensions d'accélération faibles appropriées pour l'examen critique de photomask. D'ailleurs, l'E5610 comporte un seul, électriquement commandé module d'inclinaison qui permet à sa poutre d'incliner par jusqu'à 15°, permettant à des utilisateurs d'exécuter des révisions du défaut 3D.

Capture d'Images Hautement Stable et Complètement automatique

Même lorsque fonctionnant à l'agrandissement élevé de SEM, l'E5610 exécute la représentation stable et complètement automatique de défaut à un haut débit de débit, la grâce à son stade de grande précision, la fonction de contrôle de charge, et la technologie de réduction de contamination.

Compatible Avec des Systèmes de Contrôle de Masque

L'E5610 est compatible avec des systèmes de contrôle de masque de courant principal : les importations d'outil désertent des données et automatiquement des images d'emplacement les emplacements. Il supporte le format industriellement compatible de KLARF (KLA Donne Droit Fichier).

Option Élémentaire d'Analyse de Composition

L'E5610 comporte un module optionnel d'EDS (spectrométrie dispersive de Rayon X d'énergie) qui exécute la méthode avancée par analyse-un élémentaire de défauts de blanc de masque de mappage.

Source : http://www.advantest.com

Last Update: 16. November 2012 07:47

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