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Nuovo Strumento di Rassegna di Difetto della Maschera da Advantest per i Photomasks Avanzati

Published on November 16, 2012 at 6:32 AM

Advantest Corporation oggi ha annunciato che ha sviluppato un nuovo strumento di esame di difetto della maschera, la Maschera DR-SEM E5610, per l'esame e la classificazione dei difetti ultra-piccoli negli spazii in bianco del photomask.

MASCHERA DR-SEM E5610 (Foto: Business Wire)

Il E5610 eredita la tecnologia altamente stabile e completamente automatica dell'acquisizione immagine sviluppata da Advantest per la sua multi metrologia applaudita SEM della visione per i photomasks e caratterizza un meccanismo di recente sviluppato di inclinazione del raggio che permette allo scansione agli angoli obliqui. Con la sua alta precisione, la capacità di esame di difetto di alto-capacità di lavorazione, il E5610 si pensa che contribuisca a miglioramento di prossima generazione di qualità del prodotto del photomask ed a più breve TAT (tempi di ritorno) fabbricante.

Il E5610 sarà descritto nella mostra di Advantest (cabina #3D-803 in Corridoio 3) alla fiera commerciale di SEMICON Giappone, 5-7 dicembre a Makuhari Messe nella prefettura di Chiba.

Una Soluzione Di prossima generazione di Fabbricazione del Photomask

 I processi di fabbricazione del Photomask richiedono l'estirpazione 100% dei difetti interni, che pregiudicano avversamente il rendimento, con riduzione di TAT. Il nuovo E5610 di Advantest promette di essere una soluzione indispensabile per i produttori della maschera, rispondente ad entrambe esigenze con la tecnologia veloce e accurata che classifica i difetti e le diagnosi si appropriano le soluzioni della riparazione riguardo a tipo.

Funzionalità di Prodotto

Alta Risoluzione Spaziale & Capacità Obliqua di Scansione

L'architettura privata della colonna di Advantest consegna la risoluzione spaziale giù a 2nm, anche alle tensioni di accelerazione basse appropriate per la selezione del photomask. Inoltre, il E5610 caratterizza un modulo unico e elettricamente gestito di inclinazione che permette che il suo raggio inclini fino a 15°, permettendo agli utenti di eseguire gli esami di difetto 3D.

Acquisizione Immagine Altamente Stabile e Completamente automatica

Anche quando funzionando all'alto ingrandimento di SEM, il E5610 esegue la rappresentazione stabile e completamente automatica di difetto ad un tasso alto di capacità di lavorazione, grazie alla sua alta precisione mettono in scena, funzione di controllo della tassa e la tecnologia di riduzione di contaminazione.

Compatibile Con i Sistemi di Ispezione della Maschera

Il E5610 è compatibile con i sistemi di ispezione della maschera della corrente principale: le inclusioni dello strumento disertano i dati ed automaticamente le immagini di posizione le posizioni. Supporta il formato dello standard industriale KLARF (File di Risultati di KLA).

Opzione Elementare di Analisi della Composizione

Il E5610 caratterizza un modulo facoltativo di EDS (spettrometria dispersiva dei Raggi X di energia) che esegue il metodo avanzato l'analisi-un elementare di mappatura dei difetti dello spazio in bianco della maschera.

Sorgente: http://www.advantest.com

Last Update: 16. November 2012 07:48

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