Ferramenta Nova da Revisão do Defeito da Máscara de Advantest para Photomasks Avançados

Published on November 16, 2012 at 6:32 AM

Advantest Corporaçõ anunciou hoje que desenvolveu uma ferramenta nova da revisão do defeito da máscara, a Máscara DR-SEM E5610, para rever e classificar defeitos ultra-pequenos em placas do photomask.

MÁSCARA DR-SEM E5610 (Foto: Business Wire)

O E5610 herda a tecnologia altamente estável, totalmente automático da captação da imagem desenvolvida por Advantest para sua multi metrologia aclamada SEM da visão para photomasks, e caracteriza um mecanismo recentemente desenvolvido da inclinação do feixe que permita a exploração em ângulos oblíquos. Com sua alto-precisão, a capacidade da revisão do defeito da alto-produção, o E5610 é esperada contribuir à melhoria de qualidade do produto do photomask da próxima geração e a um TAT de fabricação mais curto (tempos de rotação).

O E5610 será caracterizado na exibição de Advantest (cabine #3D-803 em Salão 3) na feira profissional de SEMICON Japão, os 5-7 de dezembro em Makuhari Messe no Chiba.

Uma Solução da Fabricação do Photomask da Próxima geração

 Os processos de manufactura do Photomask exigem a erradicação 100% dos defeitos fatais, que afectam adversamente o rendimento, com a redução do TAT. O E5610 novo de Advantest promete ser uma solução indispensável para fabricantes da máscara, satisfazendo both of these exigências com a tecnologia rápida, exacta que classifica defeitos e diagnostica soluções apropriadas do reparo no que diz respeito ao tipo.

Características de Produto

Definição Espacial Alta & Capacidade Oblíqua da Exploração

A arquitetura proprietária da coluna de Advantest entrega a definição espacial para baixo a 2nm, mesmo nas baixas tensões de aceleração apropriadas para a selecção do photomask. Além Disso, o E5610 caracteriza um módulo original, electricamente controlado da inclinação que permita que seu feixe incline até por 15°, permitindo usuários de executar revisões do defeito 3D.

Captação Altamente Estável, Totalmente Automático da Imagem

Mesmo quando se operando na ampliação alta de SEM, o E5610 executa a imagem lactente estável, totalmente automático do defeito em uma taxa alta de produção, os agradecimentos a sua alto-precisão encenam, função de controle da carga, e tecnologia da redução da contaminação.

Compatível Com Sistemas de Inspecção da Máscara

O E5610 é compatível com sistemas de inspecção da máscara do grosso da população: a ferramenta importa dados e automaticamente imagens do lugar do defeito os lugar. Apoia o formato do padrão do sector KLARF (KLA Resulta Lima).

Opção Elementar da Análise da Composição

O E5610 caracteriza um módulo opcional do EDS (espectrometria dispersiva do Raio X da energia) que execute análise-um elementar o método avançado de traçar defeitos vazios da máscara.

Source: http://www.advantest.com

Last Update: 16. November 2012 07:50

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