Advantest Corporaçõ anunciou hoje que desenvolveu uma ferramenta nova da revisão do defeito da máscara, a Máscara DR-SEM E5610, para rever e classificar defeitos ultra-pequenos em placas do photomask.
MÁSCARA DR-SEM E5610 (Foto: Business Wire)
O E5610 herda a tecnologia altamente estável, totalmente automático da captação da imagem desenvolvida por Advantest para sua multi metrologia aclamada SEM da visão para photomasks, e caracteriza um mecanismo recentemente desenvolvido da inclinação do feixe que permita a exploração em ângulos oblíquos. Com sua alto-precisão, a capacidade da revisão do defeito da alto-produção, o E5610 é esperada contribuir à melhoria de qualidade do produto do photomask da próxima geração e a um TAT de fabricação mais curto (tempos de rotação).
O E5610 será caracterizado na exibição de Advantest (cabine #3D-803 em Salão 3) na feira profissional de SEMICON Japão, os 5-7 de dezembro em Makuhari Messe no Chiba.
Uma Solução da Fabricação do Photomask da Próxima geração
Os processos de manufactura do Photomask exigem a erradicação 100% dos defeitos fatais, que afectam adversamente o rendimento, com a redução do TAT. O E5610 novo de Advantest promete ser uma solução indispensável para fabricantes da máscara, satisfazendo both of these exigências com a tecnologia rápida, exacta que classifica defeitos e diagnostica soluções apropriadas do reparo no que diz respeito ao tipo.
Características de Produto
Definição Espacial Alta & Capacidade Oblíqua da Exploração
A arquitetura proprietária da coluna de Advantest entrega a definição espacial para baixo a 2nm, mesmo nas baixas tensões de aceleração apropriadas para a selecção do photomask. Além Disso, o E5610 caracteriza um módulo original, electricamente controlado da inclinação que permita que seu feixe incline até por 15°, permitindo usuários de executar revisões do defeito 3D.
Captação Altamente Estável, Totalmente Automático da Imagem
Mesmo quando se operando na ampliação alta de SEM, o E5610 executa a imagem lactente estável, totalmente automático do defeito em uma taxa alta de produção, os agradecimentos a sua alto-precisão encenam, função de controle da carga, e tecnologia da redução da contaminação.
Compatível Com Sistemas de Inspecção da Máscara
O E5610 é compatível com sistemas de inspecção da máscara do grosso da população: a ferramenta importa dados e automaticamente imagens do lugar do defeito os lugar. Apoia o formato do padrão do sector KLARF (KLA Resulta Lima).
Opção Elementar da Análise da Composição
O E5610 caracteriza um módulo opcional do EDS (espectrometria dispersiva do Raio X da energia) que execute análise-um elementar o método avançado de traçar defeitos vazios da máscara.
Source: http://www.advantest.com