Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam

There is 1 related live offer.

5% Off SEM, TEM, FIB or Dual Beam

Новый Инструмент Просмотрения Дефекта Маски от Advantest для Предварительных Photomasks

Published on November 16, 2012 at 6:32 AM

Advantest Корпорация сегодня объявило что оно развило новый инструмент просмотрения дефекта маски, Маску DR-SEM E5610, для рассматривать и классифицировать ультра-малые дефекты в пробелах photomask.

МАСКА DR-SEM E5610 (Фото: Провод Дела)

E5610 наследует сильно стабилизированную, польностью автоматическую технологию захвата изображения начатую Advantest для своей провозглашенной multi метрологии SEM зрения для photomasks, и отличает заново начатым механизмом наклона луча который включает скеннирование на вкосую углах. С своей высок-точностью, возможность просмотрения дефекта высок-объём, E5610 предположена к внести вклад в улучшение качества продукции photomask следующего поколени и более короткий изготовляя TAT (времена оборота).

E5610 будет отличено в экспонате Advantest (будочке #3D-803 в Hall 3) на торговой выставке SEMICON Японии, 5-ое-7 декабря в Makuhari Messe в префектуре Chiba.

Разрешение Изготавливания Photomask Следующего поколени

 Процессы производства Photomask требуют изживания 100% смертоносных дефектов, которые неблагоприятно влияют на выход, в тандеме с уменьшением TAT. E5610 Advantest новое обещает быть непременным разрешением для изготовлений маски, удовлетворяя оба из этих требований с быстрой, точной технологией которая классифицирует дефекты и диагностирует соотвествующие разрешения ремонта относительно типа.

Характеристики Продукта

Высокое Пространственное Разрешение & Вкосую Возможность Скеннирования

Зодчество колонки Advantest собственническое поставляет пространственное разрешение вниз к 2nm, даже на низких напряжениях тока ускорения соотвествующих для скрининга photomask. Сверх Того, E5610 отличает уникально, электрически контролируемым модулем наклона который позволяет своему лучу опрокинуть до 15°, позволяющ пользователи выполнить просмотрения дефекта 3D.

Сильно Стабилизированный, Польностью Автоматический Захват Изображения

Даже когда работающ на высоком увеличении SEM, E5610 выполняет стабилизированное, польностью автоматическое воображение дефекта на высоком темпе объём, спасибо своя высок-точность ставит, функция управления обязанности, и технология уменьшения загрязнения.

Совместимо С Системами Контроля Маски

E5610 совместимо с системами контроля маски основного направления: инструмент импортирует данные по и автоматически изображения положения дефекта положения. Он поддерживает формат индустриального стандарта KLARF (KLA Приводит К Архив).

Изначальный Вариант Анализа Состава

E5610 отличает опционным модулем EDS (спектрометрирования Рентгеновского Снимка энергии дисперсивного) который выполняет изначальный метод выдвинутый анализом- отображать дефекты маски пустые.

Источник: http://www.advantest.com

Last Update: 16. November 2012 07:50

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit