从 Advantest 的新的屏蔽缺陷复核工具为先进的光掩膜

Published on November 16, 2012 at 6:32 AM

Advantest Corporation 今天宣布它开发了新的屏蔽缺陷复核工具,屏蔽 DR-SEM E5610,为复核和分类在光掩膜空白的超小的缺陷。

屏蔽 DR-SEM E5610 (照片: 企业电汇)

E5610 继承其优秀多远见计量学的 SEM Advantest 开发的很稳定,全自动机械的图象获取技术光掩膜的,并且以启用扫描在斜角的一个新开发的射线掀动结构为特色。 其高精确度,高处理量缺陷复核功能, E5610 预计造成下一代光掩膜产品质量改善和更短的制造的 TAT (归航时间)。

E5610 在 Advantest 的展览 (摊 #3D-803 将以为特色在霍尔 3) 在 SEMICON 日本展览会, 12月 5-7 在幕张 Messe 在千叶县。

一个下一代光掩膜制造解决方法

 光掩膜制造过程要求 100% 致命缺陷的铲除,相反影响产量,与 TAT 减少相适应。 Advantest 的新的 E5610 承诺是屏蔽制造商的一个不可缺少的解决方法,满足这两个要求对分类缺陷并且诊断适当的维修服务解决方法关于类型的快速,准确技术。

产品功能

高空间分辨率 & 倾斜扫描功能

Advantest 的所有权列结构提供空间分辨率下来到 2nm,甚而在低加速度电压适当为光掩膜审查。 而且, E5610 以允许其射线由至 15° 掀动的一个唯一,电子受控制掀动模块为特色,使用户执行 3D 缺陷复核。

很稳定,全自动机械的图象获取

既使当运行在高 SEM 放大, E5610 以高速率执行稳定,全自动机械的缺陷想象处理量,由于其高精确度阶段,充电控制功能和污秽减少技术。

与屏蔽检查系统兼容

E5610 是与主流屏蔽检查系统兼容: 工具导入缺陷地点数据和自动地图象地点。 它支持工业标准 KLARF (KLA 发生文件) 格式。

基本构成分析选项

E5610 以执行基本分析映射屏蔽空白缺陷提前的方法的一个选项 EDS (能源分散性 X-射线光谱) 模块为特色。

来源: http://www.advantest.com

Last Update: 16. November 2012 07:46

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