從 Advantest 的新的屏蔽缺陷覆核工具為先進的光掩膜

Published on November 16, 2012 at 6:32 AM

Advantest Corporation 今天宣佈它開發了新的屏蔽缺陷覆核工具,屏蔽 DR-SEM E5610,為覆核和分類在光掩膜空白的超小的缺陷。

屏蔽 DR-SEM E5610 (照片: 企業電匯)

E5610 繼承其優秀多遠見計量學的 SEM Advantest 開發的很穩定,全自動機械的圖像獲取技術光掩膜的,并且以啟用掃描在斜角的一個新開發的射線掀動結構為特色。 其高精確度,高處理量缺陷覆核功能, E5610 預計造成下一代光掩膜產品質量改善和更短的製造的 TAT (歸航時間)。

E5610 在 Advantest 的展覽 (攤 #3D-803 將以為特色在霍爾 3) 在 SEMICON 日本展覽會, 12月 5-7 在幕張 Messe 在千葉縣。

一個下一代光掩膜製造解決方法

 光掩膜製造過程要求 100% 致命缺陷的剷除,相反影響產量,與 TAT 減少相適應。 Advantest 的新的 E5610 承諾是屏蔽製造商的一個不可缺少的解決方法,滿足這兩個要求對分類缺陷并且診斷適當的維修服務解決方法關於類型的快速,準確技術。

產品功能

高空間分辨率 & 傾斜掃描功能

Advantest 的所有權列結構提供空間分辨率下來到 2nm,甚而在低加速度電壓適當為光掩膜審查。 而且, E5610 以允許其射線由至 15° 掀動的一個唯一,電子受控制掀動模塊為特色,使用戶執行 3D 缺陷覆核。

很穩定,全自動機械的圖像獲取

既使當運行在高 SEM 放大, E5610 以高速率執行穩定,全自動機械的缺陷想像處理量,由於其高精確度階段,充電控制功能和汙穢減少技術。

與屏蔽檢查系統兼容

E5610 是與主流屏蔽檢查系統兼容: 工具導入缺陷地點數據和自動地圖像地點。 它支持工業標準 KLARF (KLA 發生文件) 格式。

基本構成分析選項

E5610 以執行基本分析映射屏蔽空白缺陷提前的方法的一個選項 EDS (能源分散性 X-射線光譜) 模塊為特色。

來源: http://www.advantest.com

Last Update: 16. November 2012 07:46

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