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Gli Onori di ENIAC JU i Progetti della LENTE e MIGLIORANO per l'Innovazione di Nanotecnologia

Published on November 22, 2012 at 4:37 AM

Due progetti di ricerca con un bilancio combinato che si avvicina a 70 milione avanzamenti significativi raggiunti euro nel risparmio di temi di fabbricazione a semiconduttore e sono stati riconosciuti con 2012 il PREMIO dell'INNOVAZIONE di ENIAC JU al Forum Europeo di Nanoelectronics.

I partner del progetto del MIGLIORAMENTO hanno sviluppato i modelli di calcolo per comportamento e cronologia di strumentazione permettendo alla metrologia virtuale, manutenzione premonitrice e pianificazioni di controllo adattabile di migliorare considerevolmente la capacità di lavorazione, la stabilità e la riproducibilità ed il risparmio di temi favoloso del wafer globale. Francois Finck di STMicroelectronics, il coordinatore di progetto, ha detto: “Dentro MIGLIORI, sei produttori con le operazioni in Europa ha collaborato con 14 fornitori istituzionali e accademici e 10 industriali dei laboratori di ricerca, della soluzione per avanzare considerevolmente lo stato dell'arte in scienze della produzione e per prepararsi per fare concorrenza basato su risparmio di temi e su innovazione„.

In LENTE, una concezione considerevolmente avanzata di 12 partner, le maschere, la metrologia, lo strumento dell'esposizione, i materiali e l'integrazione trattata facendo uso di doppia esposizione per i sistemi sul chip e sul distanziatore hanno basato il passo che si raddoppia affinchè le memorie del cambiamento di fase estendano l'applicabilità della tecnologia incombente della litografia di immersione. Gerold Alberga di ASML, il coordinatore di progetto, ha detto: “la LENTE ha coperto l'intera catena di fornitura della litografia, dimostrando le risoluzioni di modello compatibili di 32 - vertici della tecnologia 22nm per sia la memoria che i dispositivi logici facendo uso degli strumenti dell'esposizione di immersione, quindi permettendo lo sviluppo tempestivo ed economicamente efficiente delle generazioni seguenti di unità a semiconduttore„.

Le concessioni ricevute progetti dal ENIAC JU e gli Stati Membri di ENIAC (MIGLIORI: L'Austria, la Francia, la Germania, l'Irlanda, l'Italia ed il Portogallo; LENTE: Il Belgio, la Francia, l'Italia, la Spagna ed I Paesi Bassi).

Andreas Selvaggio, Direttore Esecutivo di ENIAC JU, ha detto: “MIGLIORI e la LENTE è stata selezionata nell'invito a presentare proposte aperto e non Xerox dal 2008 ed è venuto a completamento questo anno. Fra 2008 e 2011, il programma di ENIAC JU ha lanciato i 40 progetti con i bilanci combinati che superano 1 miliardo euro, confermanti l'impatto importante che i partenariati pubblico-privati hanno sull'accensione dell'innovazione.„

Sopra la stessa occasione, il cluster CATRENE di EUREKA ha presentato il suo Premio dell'Innovazione al progetto EXEPT.

Sorgente: http://eniac.eu/

Last Update: 22. November 2012 05:32

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