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ENIAC JU 荣誉称号纳米技术创新的改善和透镜项目

Published on November 22, 2012 at 4:37 AM

与处理 70 在半导体制造效率的联合的预算值的二个研究计划百万欧元达到的重大的预付款和认可了与在欧洲 Nanoelectronics 论坛的 2012 个 ENIAC JU 创新证书。

改进项目合作伙伴开发了设备工作情况的计算设计和历史记录使虚拟计量学、预计维护和自适应控制计划显著地改进处理量、稳定性和增殖率和整体薄酥饼很好的效率。 STMicroelectronics 的弗朗索瓦 Finck,项目协调人,说: “请在欧洲改善,与行动的六个制造商与 14 位研究实验室,协会和学术和 10 位行业解决方法提供者合作显著地提前科技目前进步水平在制造科学和准备好竞争基于效率和创新”。

在透镜, 12 个合作伙伴显著地先进设计、屏蔽、计量学、风险工具、材料和处理综合化使用两次曝光的系统在筹码和间隔号根据加倍为了相变内存的间距能扩大现任者浸没石版印刷技术的适用性。 ASML 的 Gerold Alberga,项目协调人,说: “透镜用 32 包括全部的石版印刷供应链,展示仿造的解决方法兼容 - 22nm 内存和逻辑装置的技术节点使用浸没风险工具,从而允许半导体设备的下一代的及时和经济上高效的发展”。

从 ENIAC JU 和 ENIAC 成员国的项目被接受的授予 (请改善: 奥地利、法国、德国、爱尔兰、意大利和葡萄牙; 透镜: 比利时、法国、意大利、西班牙和荷兰)。

通配的安德烈亚斯, ENIAC JU 执行董事,说: “请改善,并且透镜在开放和竞争提案召唤被选择了从 2008年,并且今年来到完成。 在 2008年和 2011年之间, ENIAC JU 程序开始了与超出 10亿欧元的联合的预算值的 40 个项目,确认官民合伙企业有在激发创新的相当大的影响”。

在同一个场合,尤里卡字符串 CATRENE 存在了其创新证书对这个项目 EXEPT。

来源: http://eniac.eu/

Last Update: 22. November 2012 05:31

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