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Posted in | Microscopy | Nanoanalysis

公園システムは NX20 のベールを取ります: 障害の分析および品質保証のための世界の最も正確な AFM

Published on November 26, 2012 at 7:52 AM

公園システムは最もよい使用できる正確さおよび信頼性から寄与する障害の分析 (AFM)のための NX20 (FA)、ハイエンド (QA)、大きいサンプル原子力の顕微鏡をおよび品質保証の実験室を導入します。

NX20 は世界の最も正確な AFM が付いている NX の製品種目の新型車です。 ハードディスク・ドライブのおよび半導体工業の FA そして QA の必要性のために設計されていて、 NX20 は保証の長期のプローブの先端の鋭さ無比の無接触モードを意味します。 それは荒さの測定および欠陥の検討のための高精度のそして反復性へキーです。 それは高い生産性および最も低い AFM のライフ・サイクル・コストにまた主です。


「私達の技術企業の nanoscale の測定のための最もデマンドが高いアプリケーションで証明されました」、は公園システムの先生歌 Il 公園、創設者および CEO を言いました。 「公園のナノテクノロジーの解決として AFM の正確さそして評判の技術のリーダーシップの長い歴史の NX20 造りは研究するためにおよび企業組みます。 私達の本当の無接触モードは大いにより長い先端の生命の間先端を維持し、提供します批判的な見方の条件のために使用できる最も正確な測定および画像を」。 

FA および QA のための NX20 の利点はプローブの先端がサンプルの表面の上に確実に残る公園の本当の無接触 ModeTM、企業の最も速い応答時間の servo を置く結合解除された Z 次元のおかげで強調します。 本当の無接触 ModeTM 公園の技術によって妥協の測定の正確さかユーザーの生産性なしで無接触 AFM イメージ投射を提供します。 それはまた先端の寿命の拡張によって劇的に先端の代替費用を削減します。 NX20 はまた本当のサンプル TopographyTM の工業一流の低雑音の Z 探知器との Z の位置を測定するための公園の一義的な技術を特色にします。 この機能は端のオーバーシュートまたは piezo クリープの効果を取除きます。 公園 AFM の技術は FA を提供し、媒体および基板のための非常に正確な表面荒さの測定、欠陥の検討イメージ投射および分析の高リゾリューションの電気走査方式のと結合解除された X-Y スキャン、 3D 構造のためのサイドウォールの measurments を用いる QA の実験室は調査します。

「重大な次元として縮めれば装置複雑さは、データの品質です研究、分析および最終的に装置収穫の成功のために重大増加します。  品質の結果へのキーは nanoscale に正確さです。  正確で、反復可能な測定はより大きい生産性、よりよい分析およびよりよい営業成績を意味します。 公園によって NX20 は無接触モード、 AFM の先端 10 倍のより長いセービングの時間およびお金を最後に調整します。 公園 NX20 の本当のサンプル TopographyTM は企業一流の低雑音 Z の探知器が付いているサンプル表面の正確な表面の高さ記録を可能にします」、ライアン Yoo を全体的な販売およびマーケティングの副大統領言いました。 「公園は正確さ、生産性および信頼性を提供する現実的なライフ・サイクル・コストの高度 AFM のための企業の必要性を理解します。 これは公園がハードディスクおよび半導体工業の選択の AFM に」。どのようになったかです

NX20 の導入によって、公園システムは FA および QA の実験室の必要性のために構築される AFM を進水させます。 ハイエンド、大きい標本設計はライフ・サイクル・コストを下げている間半導体およびディスク・ドライブの製造によって要求される正確さおよび生産性を提供します。 開発にあるそれ多数の高度オプションを含む使用できる AFM のモードを、追加する柔軟性の未来をおよび FA および QA のためのモードはまたアドレス指定します。 技術的なデータおよびサンプル測定は要求あり次第使用できます。 より多くの情報のために psc@parkAFM.com に連絡するか、または www.parkAFM.com/nx を訪問して下さい。

Last Update: 27. November 2012 06:17

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