Molekulare Impressen Kündigt Präzisions-Impressum-Lithographie-Anlage 1100 Imprio an

Published on February 13, 2007 at 12:53 PM

Molecular Imprints, Inc. (MII) hat den spätesten Zusatz zu seiner Imprio-Zeile von Impressumlithographiehilfsmitteln heute an den Strategien in der Leuchtenhandelskonferenz vorgestellt. Die Präzisions-Impressum-Lithographie-Anlage 1100 Imprio ist ein hoher Durchsatz, ganzer Wafer Imprinter, der konstruiert wird, um Einheiten der nächsten Generation in einer breiten Reihe Anwendungen, einschließlich Lichtemittierende Dioden (LED), der mit hoher Schreibdichte Substratflächen Platte für Festplattenlaufwerke (HDD) und die optischen Bauteile zu aktivieren, die das feine Auflösungskopieren und die dreidimensionalen Merkmale benötigen. MII hat und eingebaute zwei von seinem neuen Imprio 1100 Anlagen verkauft und einige zusätzliche Verkäufe und Anlagenplatzierungen im Jahre 2007 erwartet.

Der Hochhelligkeit LED Markt, eine einiger Marktanwendungen für neues Imprio 1100 MIIS, wird vorausgesagt, um sich in den folgenden 5 Jahren zu verdoppeln, die durch anhaltende Fortschritte in der Schaffung, in der Extraktion und in der Sammlung der Leuchte getrieben werden. Viele der viel versprechendsten neuen Technologien zum Beispiel Quantum punktiert für helle Generation, die Substratfläche, die für helle Extraktion kopiert und photonische Kristalle für helle Sammlung, benötigen die Fähigkeit, Nmschuppe Merkmale zu kopieren. Das Imprio 1100 entbindet das kosteneffektive Kopieren von sub-50nm Merkmalen auf den zerbrechlichen, nicht-flachen Substratflächen, die geläufig in der Verbindungshalbleiterindustrie angetroffen werden. Die gleichen Prozesse der hohen Auflösung können auch verwendet werden, um größere Merkmale wie Laserdiodekanten und beugende optische Elemente mit beispielloser Mustertreue und CD-Regelung zu kopieren.

Die Präzisions-Impressum-Lithographie-Anlage 1100 Imprio vertritt die nächste Generation in völlig automatisierter nanoimprint Lithographie, welche die Auflösung und DIE CD-Regelung von Eträger Lithographie mit dem Durchsatz, Überlagerung kombiniert und Einfachheit eines Maskenausrichtungstransports laufen lässt. Die Anlage kann konfiguriert werden, um die allgemein verwendetsten Substratflächenbaumuster anzunehmen und ist für Vorentwicklung ideal, Versuchsproduktion oder volle Produktion abhängig von den ausgewählten Optionen. MII nachgewiesen, Schritt und grelle Prozesse der Impressumlithographie (S-FILTM), Schablonenfälschungshalterung, Schablonenwiederholungsfähigkeit und Anwendungssachkenntnismähdrescher, eine kosteneffektive Impressumlithographielösung mit Bestem in den Klassenkosten des Besitzes zu produzieren.

„MII hat ungeheuren Fortschritt in den letzten 18 Monaten gemacht, die den S-FIL Prozess anpassen, ursprünglich entwickelt für Schritt- und Wiederholungsimpressumlithographie auf CMOS-Wafers, dem spezifischen Bedarf der Verbindungshalbleiterindustrie. MII können die schlüsselfertigen lithographischen Prozesse jetzt zur Verfügung stellen, die fähig sind zum hohen Durchsatz und zur langen Prozesslebensdauer auf den empfindlichen, nicht-flachen Oberflächen von Verbundhalbleiterwafer.“ besagtes Kennzeichen Melliar-Smith, CEO von Molekularen Impressen. „Darüber hinaus, stellt die I-1100 konforme S-FIL Technologie eine aktivierende Technologie für ähnliche Anwendungen der hohen Auflösung wie das Kopieren der getrennten Spur und Bit kopierte Media für Entwicklung des Festplattenlaufwerks und kratzende Zellen der Präzision für optische Bauteile.“ zur Verfügung

http://www.molecularimprints.com

Last Update: 3. February 2012 18:53

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