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As Impressões Moleculars Anunciam o Sistema 1100 da Litografia da Impressão da Precisão de Imprio

Published on February 13, 2007 at 12:53 PM

Molecular Impressões, Inc. (MII) tem revelado a adição a mais atrasada a sua linha de Imprio de ferramentas da litografia da impressão hoje nas Estratégias na conferência do comércio da Luz. O Sistema 1100 da Litografia da Impressão da Precisão de Imprio é uma produção alta, impressora inteira da bolacha projetada permitir dispositivos da próxima geração em uma disposição larga de aplicações, incluindo os diodos Luminescentes (Diodo emissor de luz), as carcaças do disco high-density para Movimentações de Disco Rígido (HDD), e os componentes ópticos que exigem a modelação fina da definição e características tridimensionais. MII venderam e dois instalados de seu Imprio novo 1100 sistemas e esperam diversas vendas e colocações adicionais do sistema em 2007.

O mercado do DIODO EMISSOR DE LUZ do alto-brilho, um de diversos pedidos do mercado para o Imprio novo 1100 de MII, é previsto para dobrar durante os próximos 5 anos conduzidos por avanços continuados na criação, na extracção e na coleção da luz. Muitas das novas tecnologias as mais prometedoras, por exemplo, quantum pontilham para a geração clara, carcaça que modela para a extracção clara e os cristais fotónicos para a coleção clara, exigem a capacidade para modelar características da nanômetro-escala. O Imprio 1100 entrega a modelação eficaz na redução de custos de características de sub-50nm nas carcaças frágeis, não-lisas encontradas geralmente na indústria do semicondutor composto. Os mesmos processos de alta resolução podem igualmente ser usados para modelar características maiores como cumes do diodo láser e elementos ópticos diffractive com fidelidade do teste padrão e controle inauditos do CD.

O Sistema 1100 da Litografia da Impressão da Precisão de Imprio representa a próxima geração na litografia inteiramente automatizada do nanoimprint que combina a definição e o controle do CD da litografia com a produção, folha de prova do e-feixe e operando a simplicidade de um alinhador da máscara. O sistema pode ser configurado para aceitar os tipos os mais de uso geral da carcaça e é ideal para revelação avançada, a produção piloto ou a produção completa segundo as opções selecionadas. MII provados, etapa e processos da litografia da impressão (S-FILTM), apoio da fabricação do molde, capacidade da réplica do molde, e liga instantâneos da experiência da aplicação produzir uma solução eficaz na redução de custos da litografia da impressão com melhor no custo de classe da posse.

“MII fizeram o progresso tremendo durante os últimos 18 meses que adaptam o processo de S-FIL, desenvolvido originalmente para a litografia da impressão da etapa e da repetição em bolachas do CMOS, às necessidades específicas da indústria do semicondutor composto. MII podem agora fornecer os processos litográficos do turnkey capazes da produção alta e da vida longa do processo nas superfícies frágeis, não-lisas de bolachas de semicondutor composto.” Mark dito Melliar-Smith, CEO de Impressões Moleculars. “Além, a tecnologia constituída de I-1100 S-FIL está fornecendo uma tecnologia de possibilidade para aplicações de alta resolução similares como a modelação da trilha discreta e media modelados bit para a revelação da movimentação de disco rígido e estruturas grating da precisão para componentes ópticos.”

http://www.molecularimprints.com

Last Update: 3. February 2012 16:09

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