Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Молекулярные Отпечатки Объявляют Систему 1100 Литографированием Отпечатка Точности Imprio

Published on February 13, 2007 at 12:53 PM

Молекулярн Отпечатывать, Inc. (MII) раскрывала самое последнее добавление к своей линии Imprio инструментов литографированием отпечатка сегодня на Стратегиях в конференции торговлей Света. Система 1100 Литографированием Отпечатка Точности Imprio высокое объём, весь imprinter вафли конструированный для того чтобы включить приборы следующего поколени в обширном блоке применений, включая Светоиспускающие диоды (СИД), субстраты high-density диска для Дисководов Жесткого Диска (HDD), и оптически компоненты требуя точный делать по образцу разрешения и трехмерные характеристик. MII продавало и установленные 2 из своего нового Imprio 1100 систем и надеется несколько дополнительных сбывания и размещений системы в 2007.

Предсказаны, что удваивает рынок СИД высок-яркости, одно из нескольких применений рынка на Imprio 1100 MII новое, над следующими 5 летами управляемыми продолжаемыми выдвижениями в творение, извлечение и собрание света. Много из самых перспективнейших новых видов технологии, например, сумма ставят точки для светлого поколения, субстрата делая по образцу для светлого извлечения и фотонные кристаллы для светлого собрания, требуют способности сделать по образцу характеристики нанометр-маштаба. Imprio 1100 поставляет рентабельный делать по образцу характеристик sub-50nm на утлых, non-плоских субстратах обыкновенно сталкиваемых в индустрии сложного полупроводника. Такие же высокие процессы разрешения можно также использовать для того чтобы сделать по образцу более большие характеристики как зиги лазерного диода и диффракционные оптически элементы с беспрецедентный точностью воспроизведения картины и управлением КОМПАКТНОГО ДИСКА.

Система 1100 Литографированием Отпечатка Точности Imprio представляет следующее поколени в польностью автоматизированном литографировании nanoimprint совмещая разрешение и управление КОМПАКТНОГО ДИСКА литографирования с объём, верхнего слоя e-луча и работая простоту aligner маски. Систему можно установить для того чтобы признавать наиболее обыкновенно используемые типы субстрата и идеально для перспективной разработки, пилотной продукции или полной продукции в зависимости от выбранных вариантов. MII доказанные, что, шаг и внезапные процессы литографированием отпечатка (S-FILTM), поддержка изготовления шаблона, возможность репликации шаблона, и зернокомбайн экспертизы применения произвести рентабельное разрешение литографированием отпечатка с самое лучшее в цене типа владения.

«MII сделало большущий прогресс над последними 18 месяцами приспосабливая процесс S-FIL, первоначально начатый для литографирования отпечатка шага и повторения на вафлях CMOS, к специфическим потребностям индустрии сложного полупроводника. MII может теперь предусмотреть полностью готовые литографские процессы способные высокого объём и длинней отростчатой жизни на утлых, non-плоских поверхностях вафель сложного полупроводника.» сказанное Марк Melliar-Смит, CEO Молекулярных Отпечатков. «В добавлении, технология I-1100 конформная S-FIL обеспечивает позволяя технологию для подобных высоких применений разрешения как делать по образцу дискретного следа и сделанные по образцу битом средства для развития дисковода жесткого диска и структур точности grating для оптически компонентов.»

http://www.molecularimprints.com

Last Update: 3. February 2012 16:11

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit