分子版本記錄宣佈 Imprio 1100 精確度版本記錄石版印刷系統

Published on February 13, 2007 at 12:53 PM

Molecular Imprints, Inc. (MII) 今天揭幕最新的添加對版本記錄石版印刷工具其 Imprio 線路在光貿易會議的方法。 Imprio 1100 精確度版本記錄石版印刷系統是一個高處理量,被設計的全部的薄酥餅刻印器啟用在清楚的下一代設備應用,包括發光二極管 (LEDs),硬盤驅動器的高密度磁盤基體 (HDD)和要求高解析度仿造和三維功能的光學要素。 MII 在 2007年出售和安裝的二其新的 Imprio 1100 個系統并且期待幾個另外的銷售額和系統位置。

高亮光 LED 市場,對 MII 的新的 Imprio 的幾市場申請之一 1100,預測加倍在光的創建、提取和收集的持續的預付款驅動的以後 5 年。 許多最有為的新技術,例如,數量為輕的生成,仿造為輕的提取的基體加點,并且輕的收藏的光子的水晶,要求這個能力仿造毫微米縮放比例功能。 Imprio 1100 提供有效仿造在化合物半導體行業通常遇到的脆弱,非平面的基體的子50nm 功能。 同樣高分辨率進程可能也用於仿造像激光二極管土坎的更大的功能和與史無前例的模式保真度和 CD 的控制的繞射的光學要素。

Imprio 1100 精確度版本記錄石版印刷系統在結合 e 射線石版印刷與這個處理量,重疊解決方法和 CD 的控制和運行屏蔽直線對準器的簡單的充分地自動化的 nanoimprint 石版印刷方面代表下一代。 可以配置這個系統接受最常用的基體類型并且對先進發展、試驗生產或者充分的生產是理想的根據所選的選項。 MII 被證明的,步驟和一刹那版本記錄石版印刷 (S-FILTM) 進程、模板製造技術支持、模板副本功能和應用專門技術聯合收穫機導致與最好的一個有效版本記錄石版印刷解決方法在所有權的成本計算分類法。

「MII 在 CMOS 薄酥餅取得了極大的進展在適應 S-FIL 進程的前 18 個月期間,原來地開發為步驟和重複版本記錄石版印刷,化合物半導體行業的特定需要。 MII 在化合物半導體薄酥餅脆弱,非平面的表面可能現在提供已建成投付使用的平版印刷的進程有能力在高處理量和長的處理壽命上」。 前述標記 Melliar 史密斯,分子版本記錄的 CEO。 「另外, I-1100 保形 S-FIL 技術為像仿造的相似的高分辨率應用分離跟蹤和位硬盤驅動器發展的被仿造的媒體和光學要素的精確度刺耳結構提供啟用的技術」。

http://www.molecularimprints.com

Last Update: 3. February 2012 18:46

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit