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Los Materiales Aplicados Hacen Avances en la Ingeniería de la Deformación para Transistores Más Rápidos

Published on May 16, 2007 at 2:23 AM

Applied Materials, Inc. anunció hoy el Producer® Aplicado Celera™ PECVD (1), un adelanto importante en la tecnología de la ingeniería de la deformación que logra los niveles de tensión requirieron para los transistores más rápidos de fabricación en 45nm y más allá de los dispositivos. Integrando Nanocure™ propietario Aplicado ULTRAVIOLETA (1) la tecnología de la vulcanización con un compartimiento aumentado de la deposición del nitruro, el sistema aumenta la tensión de tensión de la película en más el de 30%, a los niveles industria-de cabeza de 1.7GPa, con extendibility para exceder 2.0GPa. El mismo compartimiento de la deposición puede depositar las películas con esfuerzos de compresión hasta 3.5GPa para la mejoría del >85% en corriente de mecanismo impulsor cuando está utilizado con SiGe ahuecó las estructuras de la fuente/del desagüe.

El Clave al sistema de Celera del Productor es su deposición y proceso de varias fases integrados de la vulcanización que logra las tensiones de tensión más altas del PECVD de la industria de dispositivos del NMOS. El todo el proceso se realiza in situ, sin la exposición al aire, maximizando confiabilidad del dispositivo y funcionamiento.

“El Productor es el primer sistema para integrar deformación-inducir la deposición del nitruro con un proceso ULTRAVIOLETA de la vulcanización en la misma plataforma,” dijo al Dr. Farhad Moghadam, vicepresidente y director general Grupo de las Películas Finas de los Materiales Aplicados de'. “Esto es un diferenciador crítico, puesto que rompe la barrera al funcionamiento cada vez mayor de la viruta para los dispositivos del NMOS donde la adición de la deformación de tensión tiene ventajas importantes. Esta configuración única se ha calificado ya para la producción en los sitios de cliente múltiples por todo el mundo.”

Las películas Múltiples de la ingeniería de la deformación se utilizan típicamente en dispositivos avanzados para aumentar la corriente de mecanismo impulsor del transistor y para optimizar así su funcionamiento de la velocidad y de la potencia. Esfuércese las películas, combinadas con nuevas altas tecnologías de la entrada de k/metal, ampliará la graduación a escala de la viruta más allá del nodo 45nm y activará la continuación de la Ley de Moore.

Terminales de componente Aplicados la industria en proveer de soluciones de ingeniería de la deformación una cartera extensa de tecnologías de calidad mundial. Cuando están combinadas con las capas del nitruro del Productor del sistema de Celera y las técnicas de la memorización de la tensión, las ventajas aditivas de la deformación de estas tecnologías entregan incluso corrientes de mecanismo impulsor más altas y los transistores de una potencia más rápida, más inferior. La ARPA Aplicada del Productor entrega deformación-inducir las películas de tensión en el STI (1) y PMD (1) las regiones. El Centura® Aplicado RP Epi para SiGe ahuecó fuente/el desagüe entrega la mejoría de la corriente de mecanismo impulsor del >60% en un proceso el 100% selectivo robusto. Además de ventajas en dispositivos de lógica, las ayudas de la ingeniería de la deformación reducen fuga y mejoran tiempo de retención en dispositivos de memoria no volátil.

Last Update: 17. January 2012 10:52

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