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JEOL、 Genisys およびコーネル大学はナノテクノロジーの開発のパートナーシップを形作ります

Published on June 5, 2007 at 2:56 AM

Gmbh GenISys は直接 e ビームに焦点を合わせる微細構造の製造プロセスの最適化のためのソフトウェアの提供者、今日それ発表されて形作りました JEOL、株式会社およびコーネル大学の Nanoscale の科学技術機能との技術開発のパートナーシップを書きます。 ともに、 3 つの組織はナノメーター範囲の構造のために直接のための高度の解決を開発するために書きます e ビームデータ準備および電子をプロセス訂正 (nano EPC) の技術協力しています。

このパートナーシップでは、各構成は一義的な専門知識およびリソースにてこ入れしています。 JEOL を使用して、 GenISys は高性能レイアウト BEAMER データ準備およびハードウェアベンダーのハイエンド e ビーム石版印刷システムのパフォーマンスを最大化するために PEC のソフトウェアを最適化しています。 世界の一流の nanoscale の研究所の 1 つとして、コルネル Nanoscale の科学技術機能はマイクロエレクトロニクスで、光学使用される、 nanostructures の作業生物医学的なアプリケーションおよび他の機能にてこ入れする実施および両方開発戦略で指導を提供しています。

三者一致の作業は約 10 ナノメーターまたはずっとより少しの構造の焦点との約 6 か月間進行中、です。 これらの非常に小さい構造は前例のない均等性のための必要性、整合性および配置を作成する電子ビーム著者の少数のパルスだけと製造されます。 コルネルJEOL の共同の調査結果は既に今この離散執筆格子の印刷の人工物を訂正するアルゴリズムを含んでいる GenISys のソフトウェアのレイアウト BEAMER のアップグレードを可能にしてしまいました。 将来のバージョンは追加機械およびプロセス効果を説明できます。 GenISys nano EPC の解決は e ビームデータ準備および訂正のために使用された 20歳のソフトウェア技術上の大きな進展を表します。

「直接 e ビームのユーザーは nanostructure アプリケーションのために高度データ準備のための必要性に緊急な解決および訂正を書きます。 装置のベンダー、ユーザーおよびソフトウェアベンダーの強い協同はこれらの開発のために主です。 私達は非常に幸運 JEOL と協力するためにであり、コルネル Nanoscale の科学技術機能」、ウーリッヒ Hofmann、創設者および GenISys の総務部長を言いました。 「これらの組織は nano 製造の最新式を開拓して、レイアウト BEAMER のそれ以上の開発そして拡張に理想的なフォーラムを提供します。 ソフトウェアおよび e ビームアプリケーションの知識の高い柔軟性は、敏感さおよび一義的な組合せは GenISys が市場が」。待っている解決を提供することを可能にします

「JEOL は市場で最も適用範囲が広い e ビームツールを提供するように常に努め私達がコルネルでチームから受け取る入力は私達の開発努力への巨大な貢献です。 パートナーとして GenISys を使って、私達に nano 製造のデータ準備の側面により多くの可視性があり、彼らの顕著な専門家で協力から寄与し」、 Katsuya 渡辺言いました、電子の国際会議と共に、イオン催される話している、会社のユーザ・グループの会議で JEOL の販売部長をそしてデンバー、 5 月 29 日に CO の光子ビーム技術そして Nanofabrication、 - 2007 年 6 月 1 日。

「レイアウト BEAMER は結果の使い易く、全面的な品質との私達に印象づけました。 GenISys の速い開発の速度、敏感さおよび柔軟性は私達が私達の e ビーム nano 構成の機能を高める必要がある新技術の実施を可能にします。 私達はそれを更に探索するチャンスを持って嬉しく、それを私達の学際的な開発努力に適用するため」、 Rob Ilic、コルネル Nanoscale の科学技術機能の研究教授およびユーザー・プログラムマネージャを言いました。 「私達の機能に毎年来ている 700 人以上のユーザーと私達は膨大 e ビームデータ準備をし、この共同は私達がよりよいサービスおよび結果を提供するのを助けましたり、また学びますプロセスの未来についての詳細を」。

Last Update: 17. January 2012 03:13

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