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JEOL, Genisys 및 코넬 대학 양식 나노기술 개발 파트너십

Published on June 5, 2007 at 2:56 AM

GenISys GmbH를, e - 빔 직접 작성에 초점을 미세 제조 공정의 최적화를위한 소프트웨어의 공급자는, 오늘은와 기술 개발 제휴 형성을 발표했다 JEOL (주) 와 코넬 대학의 Nanoscale 과학 기술 시설을. 함께,이 세 조직은 직접 쓰기 e - 빔 데이터 준비와 전자 프로세스 보정 (나노 EPC) 나노미터 범위의 구조에 대한 기술에 대한 고급 솔루션을 개발하기 위해 협력하고 있습니다.

이 제휴에서, 각 조직은 고유한 전문 지식과 자원을 활용합니다. JEOL과 협력, GenISys는 고성능 레이아웃 BEAMER 데이터 준비 및 하드웨어 공급 업체의 하이 엔드 e - 빔 리소그래피 시스템 성능을 최대화하기 위해 PEC 소프트웨어를 최적화하는 것입니다. 세계 최고의 nanoscale 연구 시설 중 하나로서, 코넬 Nanoscale 과학 기술 시설 마이크로 전자, 광학, 생명 의학 어플 리케이션 및 기타 기능에 사용되는 nanostructures에 미치는 작업을 활용하여, 구현 및 개발 전략 모두에 대한 지침을 제공하고 있습니다.

세 업체의 계약에 대한 작업은 몇 십 나노미터 이하의 구조를 중심으로 약 6 개월 동안 진행되었습니다. 이러한 매우 작은 구조는 전례없는 균일, 일관성 및 게재 위치에 대한 필요를 작성, 전자 빔 작가의 몇 펄스로 가공하고 있습니다. 코넬 - JEOL 협력의 결과는 이미 지금이 이산 작성 그리드의 인쇄 유물을 수정 알고리즘을 포함하는 GenISys 소프트웨어 레이아웃 BEAMER의 업그레이 드를 사용할 수있다. 향후 버전은 추가적인 기계와 프로세스 효과를위한 계정 수 있습니다. GenISys 나노 EPC 솔루션은 e - 빔 데이터 준비 및 수정에 사용되고있는 20 세의 소프트웨어 기술을 통해 큰 사전을 나타냅니다.

"e - 빔 직접 쓰기의 사용자는 고급 데이터 준비와 nanostructure 응용 프로그램에 대한 수정을위한 긴급 솔루션이 필요합니다. 장비 공급 업체, 사용자 및 소프트웨어 공급 업체의 강력한 협력이 발전을위한 열쇠입니다. 우리는 JEOL과 코넬 Nanoscale 과학 기술 시설과 협력으로 매우 행운있다 "울리히 호프만, 설립자이자 GenISys의 총괄했다. "이러한 조직은 나노 제조에있는 예술의 상태를 개척하고 레이아웃 BEAMER의 발전과 확장을위한 이상적인 포럼을 제공하고 있습니다. 소프트웨어 및 e - 빔 응용 지식의 높은 유연성, 응답 독특한 조합 GenISys은 시장이 기다리고있는 솔루션을 제공할 수 있습니다. "

"JEOL은 항상 시장에서 가장 유연한 e - 빔 도구를 제공하기 위해 노력해왔다, 우리는 코넬의 담당자로부터받은 입력은 우리의 개발 노력에 큰 공헌이다. 파트너로서 GenISys로, 우리는 나노 제조의 데이터 준비 측면에 더 많은 가시를하고 그들의 뛰어난 전문가들과 협력으로부터 혜택을, "Katsuya 와타나베, JEOL의 판매 관리자가 함께 개최 회사의 사용자 그룹 회의에서 연설했다 2007년 6월 1일 - 전자, 이온, 그리고 광자 빔 기술 일과 5 월 29 일 덴버, CO에 Nanofabrication에 관한 국제 컨퍼런스.

"레이아웃 BEAMER는 사용의 용이성과 결과의 전반적인 품질은 우리에게 감동했다. 빠른 개발 속도, 응답 및 GenISys의 유연성은 우리 e - 빔 나노 구조 기능을 강화해야 할 새로운 기술의 구현을 가능하게합니다. 우리는 더 이상 그것을 탐구하고 우리의 학제 개발 노력에 적용할 수있는 기회를 주셔서 감사합니다 "롭 Ilic, 코넬 Nanoscale 과학 기술 시설 연구 연관 및 사용자 프로그램 매니저는 말했다. "700 명 이상 사용자는 매년 우리 시설에오고, 우리는 e - 빔 데이터 준비 방대한 양을 어떻게,이 협력은 우리가 더 나은 서비스 및 결과를 제공뿐만 아니라 프로세스의 미래에 대해 자세히 알아보려면 도움이 될 것입니다."

Last Update: 9. October 2011 03:59

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