Site Sponsors
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

JEOL, Genisys и Университет Корнеллаа формируют Партнерство Развития Нанотехнологии

Published on June 5, 2007 at 2:56 AM

GenISys ГмбХ, провайдер ПО для оптимизирования процессов изготовления микроструктуры фокусируя на e-луче сразу пишет, сегодня объявлено ему формировало партнерство развития технологии с JEOL, Ltd., и Средством Науки и Техники Nanoscale Университета Корнеллаа. Совместно, 3 организации сотрудничают для того чтобы начать предварительные разрешения для сразу пишут подготовку и электрон данным по e-луча отростчатые технологии коррекции (nano-EPC) для структур нанометр-ряда.

В этом партнерстве, каждая организация leveraging свои уникально экспертиза и ресурсы. Работающ с JEOL, GenISys оптимизирует свою высокопроизводительную подготовку данным по Плана BEAMER и ПО PEC для того чтобы увеличить представление на системах литографированием e-луча поставщика оборудования лидирующих. Как одно из средств исследования nanoscale мира ведущих, Средство Науки и Техники Корнелла Nanoscale обеспечивает наведение как на вставке, так и на стратегиях развития, leveraging своя работа на nanostructures используемых в микроэлектронике, оптика, биомедицинские применения и другие функции.

Работа на согласовании 3-партии в прогрессе на около 6 месяцев, с фокусом на структурах некоторых 10 нанометров или. Эти весьма малые структуры изготовлены при только немного ИМПов ульс сочинителя луча электронов, создавая потребность для беспрецедентного единообразия, последовательность и размещение. Заключения сотрудничества Корнелла-JEOL уже включали подъемы Плана BEAMER ПО GenISys, который теперь включает алгоритм который исправляет артефакты печатания этой дискретной решетки сочинительства. Будущие версии будут определить дополнительные влияния машины и процесса. Разрешение GenISys nano-EPC представляет основнное развитие над технологией ПО годовалого 20 которая была использована для подготовки и коррекции данным по e-луча.

«Пользователи e-луча сразу пишут потребности срочные разрешения для предварительных применений nanostructure подготовки и поправка на данных. Сильное сотрудничество поставщика оборудования, пользователя и поставщика программного обеспечения ключево для этих развитий. Мы очень удачны для того чтобы сотрудничать с JEOL и Средство Науки и Техники Корнелла Nanoscale,» сказал Ulrich Hofmann, основателя и генеральный директор GenISys. «Эти организации pioneering современное в nano-изготовлении и обеспечивают идеально форум для более дополнительных развития и выдвижения Плана BEAMER. Высокая гибкость, отзывчивость и уникально ПО сочетание из и знание применения e-луча позволят GenISys поставить разрешения рынок ждет.»

«JEOL всегда изыскивало обеспечить самые гибкие инструменты e-луча на рынке, и входной сигнал мы получаем от команды на Корнелле огромный вклад к нашим усилиям развития. С GenISys как соучастник, мы будем иметь больше видимости в сторону подготовки данных nano-изготовления и будем извлекали пользу сотрудничать с их выдающими специалистами,» сказал Katsuya Watanabe, администраторов по сбыту JEOL, говоря на групповой встрече Пользователя компании проведенной совместно с Международной Конференцией на Электронном, Ионе, и Технологии Луча Фотона и Nanofabrication в Денвере, CO, 29-ого мая-1-ого июня 2007.

«План BEAMER впечатлял нас с своими легкием в использовании и общим качеством результатов. Быстрые скорость, отзывчивость и гибкость развития GenISys включают вставку новых видов технологии нам нужно увеличить наши возможности e-луча nano-составляя. Мы радостны иметь шанс исследовать его более далее и приложить его к нашим междисциплинарным усилиям развития,» сказал Роб Ilic, научно-исследовательский сотрудник и менеджер программы для пользователя Средства Науки и Техники Корнелла Nanoscale. «При больше чем 700 пользователей приходя к нашему средству однолетн, мы делаем более обширное количество подготовки данным по e-луча, и это сотрудничество поможет нам обеспечить более лучшие обслуживание и результаты, так же, как учит больше о будущем процесса.»

Last Update: 15. January 2012 05:20

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit