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JEOL、 Genisys 和康奈爾大學結成納米技術發展合夥企業

Published on June 5, 2007 at 2:56 AM

Gmbh 的 GenISys,軟件提供者微結構著重 e 射線的製造進程的優化的直接寫,今天宣佈它結成了與 JEOL、有限公司和康奈爾大學的 Nanoscale 科學技術設備的一家技術開發合夥企業。 同時,三組織合作開發直接的先進的解決方法為毫微米範圍結構寫 e 射線數據準備和電子處理更正 (納諾 EPC) 技術。

在此合夥企業,每個組織利用其唯一專門技術和資源。 與 JEOL 一起使用, GenISys 優選其高性能格式 BEAMER 數據準備和光電管軟件最大化在硬件供應商的高端 e 射線石版印刷系統的性能。 作為其中一個領先世界的 nanoscale 研究所,康奈爾 Nanoscale 科學技術設備在實施和發展戰略提供指導,利用其在用於微電子學的 nanostructures 的工作,光學、生物醫學的應用和其他功能。

在這個三方協議的工作是進展中大約六個月,與在大約 10 毫微米或較少的結構的一個重點。 這些非常小的結構製造與電子束作家的仅一些脈衝,創建對史無前例的均一的需要,一貫性和位置。 康奈爾JEOL 協作的發現已經啟用了 GenISys 軟件格式 BEAMER 的升級,現在包括一個算法更正此分離文字網格打印人工製品。 將來的版本能佔另外的設備和進程作用。 GenISys 納諾 EPC 解決方法表示在為 e 射線數據準備和更正使用了的 20 歲的軟件技術的飛躍。

「直接 e 射線的用戶為 nanostructure 應用寫需要急需解決對先進的數據準備和更正。 設備供營商、這個用戶和軟件商的嚴格的合作為這些發展是關鍵的。 我們是非常幸運的合作與 JEOL,并且康奈爾 Nanoscale 科學技術設備」,總經理說烏爾裡克 Hofmann、創建者和 GenISys。 「這些組織作早期工作在極小製作的科技目前進步水平并且為格式提供理想的論壇 BEAMER 進一步發展和擴展名。 軟件和 e 射線應用知識的高靈活性、快速響應和唯一組合將使 GenISys 提供這個市場等待的解決方法」。

「JEOL 在這個市場總是尋求提供最靈活的 e 射線工具,并且我們從這個小組接受在康奈爾的輸入是對我們的開發努力的巨大的攤繳。 作為合作夥伴的 GenISys,我們將有更多公開性到極小製作的數據準備端,并且受益於合作與他們的未清專家」,銷售經理說 Katsuya 渡邊, JEOL,告訴在與關於電子的國際會議一道召開的公司的用戶組會議上,離子和光子束技術和極小製作在丹佛, CO,在 5月 29日 - 2007年 6月 1日。

「格式 BEAMER 打動了我們與其結果的易用和整體質量。 GenISys 的快速發展速度、快速響應和靈活性啟用我們需要提高我們的 e 射線納諾構建的功能新技術的實施。 我們是高興有這個機會進一步測試它,并且適用它於我們的學科開發努力」,用戶程序經理說 Rob Ilic,研究員和康奈爾 Nanoscale 科學技術設備的。 「與超過每年來到我們的設備的 700 個用戶,我們執行大量的 e 射線數據準備,并且此協作將幫助我們提供更好的服務和結果,以及瞭解更多關於這個進程的遠期」。

Last Update: 23. January 2012 05:38

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