Tegal Reçoit la Commande pour l'Outil de Batterie de PVD de la Première Fonderie de la Rangée MEMS

Published on June 9, 2007 at 12:02 AM

Tegal Corporation, un principal créateur et un constructeur gravure à l'eau forte de plasma et systèmes de dépôt utilisés dans la production des circuits intégrés, MEMS, et les dispositifs de nanotechnologie, annoncés lui avait reçu une commande pour un Effort (le TM) à l'outil de batterie de PVD d'une fonderie de la haut-rangée MEMS située dans l'Europe. Le système d'Effort sera installé dans l'abonnée récent-augmentée 150mm MEMS ouvrier, et utilisé pour produire des dispositifs de MEMS pour les marchés électroniques de télécommunication, automobiles, biomédicaux, et de consommateur.

« Le système de l'Effort PVD a été sélecté par notre abonnée sur la base de l'expérience professionnelle de la production de l'Effort, sa souplesse, et sur la qualité des films aux lesquels l'Effort (le TM) produit, » a dit Thomas Mika, Président et PRÉSIDENT de Tegal Corporation. « Les abonnées du MEMS de Tegal, comme cette fonderie principale de MEMS, investissent dans la capacité de production augmentée de supporter la demande de battement des dispositifs de MEMS dans les applications telles que des microphones de silicium de combiné téléphonique de téléphone portable, où on s'attend à ce que des expéditions d'ensemble doublent, de 300M à 600M annuels, d'ici 2009. Notre Effort Au système (TM) a été acheté pour supporter ces besoins commerciaux de fabrication de MEMS. »

L'Effort de Tegal Au système (TM) est un outil de batterie du vide de pointe et très poussé PVD utilisé dans des fabs de production pour déposer des films de pureté cohérente et grande, avec le bas aux valeurs zéro de stress, dans un environnement de processus extrêmement propre. Ces films sont largement employés dans des applications de métallisation de sous-mémoire annexe, l'emballage avancé, des dispositifs d'alimentation électrique, des masques de photo (EUV y compris), des lights emitting diode de haut-brilliance (HB-LED), et en produisant les dispositifs électroacoustiques pour FBARs et RF MEMS. L'Effort À (le TM) a une transmission facile à utiliser de GUI, de SECS/GEM, le disque fiable de faible-contact traitant, et la capacité flexible de taille et forme de disque, qui lui effectue l'idéal pour les environnements de production ultra-propres pour des applications de face avant et de postérieur. Les modules sans dommage Optionnels de doux-gravure à l'eau forte, et un grand choix de configurations de magnétron de RF, sont disponibles pour pulvériser beaucoup le diélectrique différent et les films conducteurs utilisés dans le semi-conducteur, le MEMS, et toute autre production d'appareil électronique.

Last Update: 17. January 2012 11:31

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