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UVISEL VUV 阶段调整了从 Horiba Jobin 对 140nm 被延伸的下来 Yvon 的分光镜 Ellipsometer

Published on August 22, 2007 at 10:51 PM

UVISEL VUV 阶段被调整的分光镜 ellipsometer 的简介从 Horiba Jobin Yvon 的扩大 UVISEL 串联的性能下来到 140 毫微米。 此能源范围变得愈加重要为用于有 nanoelectronic, nanophotonic 的 nanoscale 设备的非常薄膜的描述特性, nanobiosensor 和 nanorobotic 应用。

UVISEL VUV ellipsometer

UVISEL VUV ellipsometer 提供优越 VUV 性能和实验灵活性的最佳的组合确定薄膜厚度和光学常数在波长范围 140 间到 826 毫微米。 UVISEL VUV 的功能包括:

  • 在非常高速的宽光谱范围                           
  • 高性能的先进的设计在 VUV
  • 直接范例存取和快速装载
  • 高精确度和精密测量的相位调制技术
  • 非常好的针对噪音的信号和信号对背景比例

要能报道此大范围仪器一定是航空/无氧,并且它是此可能由于航空和其删除进入减少有些仪器的范例处理量的需求,当这个范例从仪器时被挂接并且被卸下。

要使此影响减到最小 UVISEL VUV 配置为三不同隔间; 闪亮指示 + 偏振镜、范例房间和光弹性的调制器 + 单色仪 + 多极光电管检测系统。 范例隔间得以进入单独和用其自己的查出的清除系统装备。

此设计为处理的范例提供高灵活性和通用性,并且启用高范例处理量。

UVISEL VUV 是由 Deltapsi2 软件平台控制的,并且对 VUV 对过分要求的研究和工业质量管理的薄膜申请是理想的。

VUV 薄膜应用

VUV 分光镜 ellipsometry 应用从材料光学常数和光学 bandgap 的评定吸收在紫外的范围例如高 k 材料,有机材料,步进光学,光致抗蚀剂。

VUV 分光镜 ellipsometry 为非常薄层和界面的厚度评定提供增加的精确度。 这为一种当地氧化物、一块概略的超出层或者界面描述特性影响最终设备的效率的 nanoscale 应用是特别有用的。

Last Update: 14. January 2012 22:09

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