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応用材料はへのそして向こう誘電性 CMP プロセス 45nm 装置ノードの実時間制御を可能にする FullVision 新しい応用システムを発表しました

Published on November 30, 2007 at 12:28 PM

Applied Materials、 Inc. はへのそして向こう誘電性 CMP1 プロセス 45 ナノメーター装置ノードの実時間制御を可能にする FullVision™ (nm)新しい応用システムを発表しました。 加えられた FullVision システムカップルは酸化物、 STI2 および多 CMP のアプリケーションを含むいろいろ誘電材料のための進められたそのままのエンドポイントの機能を、提供するために多重波長の分光学を用いる Windows パッドの技術の特許を取りました。 システムはすべてのアプリケーションを渡る高い反復性をとのより少しにより 150 オングストローム、模造されたウエファーの 3 シグマエンドポイントの正確さ示します。 単一の波長のエンドポイントの技術上の大きな進展は、 FullVision システム誘電性アプリケーションのための 50% のより高い信頼性の改善された測定の正確さを提供します。

「CMP エンドポイント技術応用材料によって開拓され、基準 CMP パフォーマンスの提供に主です」、は先生を」誘電性システムおよび CMP のビジネスグループ言いました Hichem M'Saad、副大統領および応用材料のの総務部長。 「フィルムがより薄くなると同時に、 CMP はますます困難になりま、プロセス制御受諾可能な収穫を達成するようにはるかに精密なウエファーにウエファーが要求します。 広帯域分光分析を使用して、 FullVision の技術は - 妥協スループットなしで…いろいろプロセスステップで競争システムの正確さそして反復性を二度提供するためにウエファーを渡る個々の磨くゾーンを監察します。 これらはです製造する高度装置のための重要な条件」。

FullVision システムは大量の製造業の応用 Reflexion® LK CMP システムの主要なメモリ顧客によって既に採用されてしまいました。 これらの顧客のために、システムはかなり消費可能なセットおよび入力ウエファーのプロフィールの変化でドリフトによって引き起こされるウエファーのスクラップを減らすことによってより高い CMP の収穫を可能にしました。

応用材料は - 900 以上の 300mm CMP システムのインストールベースと世界的に - CMP の技術と一流の planarization パフォーマンスを保障するために進められたそのままの度量衡学を提供することの企業を導きます。 応用 FullVision のエンドポイントシステムのより多くの情報については http://appliedmaterials.com/products/reflexion_lk_cmp_4.html を見て下さい。

Last Update: 17. January 2012 00:33

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