Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

De Overeenkomst van het Teken van ASML, van Zeiss en van Canon bij het Verlenen Van Vergunningen van de Portefeuilles van het Octrooi van de Apparatuur van de Lithografie van de Halfgeleider

Published on December 31, 2007 at 9:33 AM

ASML de Holding NV en Carl Zeiss SMT kondigde aan dat elk een overeenkomst met Canon Inc. voor de globale dwars-vergunning van octrooien op hun respectief gebied van halfgeleiderlithografie en optische die componenten heeft ondertekend, wordt gebruikt om geïntegreerde schakelingen, of spaanders te vervaardigen.

ASML en Zeiss met hun grote huidige onderzoek en ontwikkelingsinspanningen en het voortvloeien weten hoe, met deze overeenkomst met Canon, met zijn wezenlijke octrooiportefeuille instem. Er zal geen overdracht van technologie zijn, die de middelen ASML en Zeiss om met alle spelers in de markt op basis van hun vermogen zullen voortzetten te concurreren om belangrijke technologieën te brengen tot markt.

De dwars-vergunning helpt de drie bedrijven om vrijer op het gebied te concurreren relevant voor hun klanten, dat technologiedeskundigheid en implementatie, eerder dan op intellectuele-eigendomsrechten (IP) is. ASML en Zeiss zijn sterk geëngageerd aan het investeren in onderzoek en ontwikkeling en zullen hun opeenhoping van weten hoe en IP voortzetten.

De overeenkomst betekent dat de bedrijven producten kunnen op de markt brengen op technologie worden gebaseerd door de op materiaal betrekking hebbende octrooien dat van andere partij wordt behandeld lithografie.

Last Update: 15. January 2012 02:58

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit