ASML, Zeiss e Canon assinam acordo de licenciamento Semiconductor Equipment Litografia portfólios de patentes

Published on December 31, 2007 at 9:33 AM

ASML Holding NV e Carl Zeiss SMT anunciou que cada um tem assinado um acordo com a Canon Inc. para os mercados globais licença cruzada de patentes em seus respectivos campos de litografia de semicondutores e componentes ópticos, utilizados para a fabricação de circuitos integrados ou chips.

ASML e Zeiss com suas pesquisas atuais e grandes esforços de desenvolvimento e saber como resultante, bem-vindo este acordo com a Canon, com seu portfólio de patentes substancial. Não haverá transferência de tecnologia, o que significa ASML e Zeiss continuará a competir com todos os jogadores no mercado com base em sua capacidade para trazer tecnologias de ponta para o mercado.

A licença cruzada ajuda a três empresas para competir de forma mais livre na área relevante para seus clientes, que é expertise de tecnologia e implementação, ao invés de sobre propriedade intelectual (PI). ASML e Zeiss estão fortemente empenhados em investir em pesquisa e desenvolvimento e continuará a sua acumulação de saber como e IP.

O acordo significa que as empresas podem comercializar produtos baseados em tecnologia coberta por litografia da outra parte de equipamentos relacionados com patentes.

Last Update: 16. October 2011 23:19

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