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ASML公司,蔡司和佳能Licencing半导体光刻设备的专利组合签署协议

Published on December 31, 2007 at 9:33 AM

ASML Holding NV公司卡尔蔡司SMT宣布,已签署与佳能公司在各自领域的半导体光刻技术和光学元件,用于制造集成电路或芯片的全球专利交叉许可协议。

ASML和大电流的研究和开发力度,导致蔡司知道如何,欢迎其大量的专利组合,这与佳能的协议。将不会转让技术,这意味着ASML和Zeiss将继续在市场上的所有球员的能力的基础上,竞争市场带来领先的技术。

交叉许可,帮助他们的客户,这是技术专长和实施,而不是对知识产权(IP)的权利,有关该地区三家公司在竞争中更加自如。 ASML和Zeiss坚定地致力于在研究和开发的投资,并会继续他们建立诀窍和知识产权。

该协议意味着该公司可以根据对方的光刻设备相关的专利所涵盖的技术市场的产品。

Last Update: 4. October 2011 04:22

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