Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Inundación de Trabajos de Investigación de la Universidad de la Ciencia y de la Ingeniería de Nanoscale Que Se Presentarán en la Conferencia de Nanoelectronics

Published on February 26, 2008 at 1:51 PM

Más de 30 científicos y los papeles técnicos basados en la investigación conducto en la Universidad de la Ciencia y de la Ingeniería (“CNSE” de Nanoscale) de la Universidad en Albany serán presentados a la una de las conferencias de cabeza del mundo centradas en la industria global del nanoelectronics.

En todos, 31 papeles serán presentados en la conferencia Avance SPIE de la Litografía en San Jose, CA que representan el trabajo realizado en el Complejo de Albany NanoTech de CNSE por los equipos de investigación de CNSE, por los equipos de la investigación de los socios de la corporación globales de CNSE residentes en Albany NanoTech - incluyendo IBM, AMD, SEMATECH Internacional, ASML, el Electrón de Tokio y los Materiales Aplicados - o por la junta CNSE y los equipos de la investigación de los socios residentes en Albany NanoTech.

Los papeles revisten un rango de temas y de la investigación innovadora del contorno en litografía, que se considera como crítica a la fabricación de los dispositivos futuros del nanoelectronics. Incluido entre las áreas técnicas en las cuales las novedades están señaladas son (“EUV”) sistemas ultravioletas extremos, resiste y enmascara; materiales y procesos de la litografía de la inmersión; y, microlithography óptico.

El Dr. Alain E. Kaloyeros, Vicepresidente y Jefe Administrativo de CNSE, dijo, “La presentación de más de 30 científicos y los papeles técnicos en la conferencia Avance SPIE de la Litografía basada en la investigación realizada en el Complejo de Albany NanoTech de CNSE demuestra más lejos los conocimientos técnicos intelectuales de calidad mundial y las capacidades técnicas incomparables en el UAlbany NanoCollege. La excelencia reconocida de este recurso verdaderamente único para la educación, la investigación, el revelado y la comercialización de alta tecnología es un tributo a la visión, al soporte y a la inversión de los cargos electos de Nueva York, que han creado un paradigma educativo pionero en CNSE y el revelado de tecnología acelerado entre las compañías de cabeza del nanoelectronics del mundo.”

El Dr. James G. Ryan, el Vicepresidente del Socio de la Tecnología y el Profesor de Nanoscience en CNSE, dijeron, “Los papeles científicos y técnicos generados en Albany NanoTech de CNSE por el NanoCollege y nuestros socios de la corporación globales subrayan la potencia de la colaboración entre la academia y la industria en el incentivo de la innovación. Nos sentimos confiados que los progresos señalados en SPIE desempeñarán un papel importante en el esfuerzo de acelerar la introducción de litografía ultravioleta extrema en la fabricación.”

La conferencia de SPIE, siendo sujetado el 24-29 de febrero, atrae a millares de asistentes y se considera la acción técnica más importante del semiconductor de la industria de la litografía.

Last Update: 17. January 2012 09:03

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit