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Pléthore de Rapports de Recherche de l'Université du Scientifique et Technique de Nanoscale À Présenter à la Conférence de Nanoelectronics

Published on February 26, 2008 at 1:51 PM

Plus de 30 scientifiques et documents techniques basés sur la recherche conduite à l'Université du Scientifique et Technique de Nanoscale (« CNSE ») de l'Université à Albany seront présentés à une des conférences principales mondiales concentrées sur l'industrie globale de nanoelectronics.

En Tout, 31 papiers seront présentés à la conférence de Lithographie Avancée par SPIE dans San Jose, CA qui représentent le travail effectué au Composé de Nanotechnologie d'Albany de CNSE par des équipes de recherche de CNSE, par les équipes de recherche globales des associés d'entreprise de CNSE résidentes à la Nanotechnologie d'Albany - comprenant IBM, le DMA, le SEMATECH International, l'ASML, l'Électron de Tokyo et les Matériaux Appliqués - ou par l'articulation CNSE et partners des équipes de recherche résidentes à la Nanotechnologie d'Albany.

Les papiers couvrent une recherche novatrice d'éventail de thèmes et d'ensemble en lithographie, qui est vue comme critique à la fabrication de futurs dispositifs de nanoelectronics. Compris parmi les zones techniques dans lesquelles des nouveautés sont enregistrées sont (« EUV ») les systèmes ultra-violets extrêmes, résiste et masque ; matériaux et procédés de lithographie de submersion ; et, microlithography optique.

M. Alain E. Kaloyeros, Vice Président et Directeur Général de CNSE, a dit, « L'exposé de plus de 30 scientifiques et documents techniques à la conférence de Lithographie Avancée par SPIE basée sur la recherche exécutée au Composé de Nanotechnologie d'Albany de CNSE explique davantage le savoir-faire intellectuel parmi les meilleurs du monde et les capacités techniques inégalées chez l'UAlbany NanoCollege. L'excellence identifiée de ce moyen véritablement seul pour l'éducation, la recherche, le développement et la commercialisation de pointe est un hommage à la visibilité, au support et à l'investissement des agents élus de New York, qui ont produit un paradigme éducatif pilote à CNSE et le développement des technologies accéléré parmi les compagnies principales mondiales du nanoelectronics. »

M. James G. Ryan, Vice Président d'Associé de Technologie et Professeur de Nanoscience à CNSE, ont dit, « Les scientifiques et les documents techniques produits à la Nanotechnologie d'Albany de CNSE par le NanoCollege et nos associés d'entreprise globaux soulignent l'alimentation électrique de la collaboration entre le milieu universitaire et l'industrie en stimulant l'innovation. Nous sommes confiants que les développements enregistrés à SPIE joueront un rôle majeur dans l'effort pour accélérer l'introduction de la lithographie ultra-violette extrême dans la fabrication. »

La conférence de SPIE, étant retenu les 24-29 février, attire des milliers de participants et est considérée l'événement technique le plus important de l'industrie de lithographie de semi-conducteur.

Last Update: 17. January 2012 09:58

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