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Inundação dos Artigos de Investigação da Faculdade da Ciência e da Engenharia de Nanoscale A Ser Apresentadas na Conferência de Nanoelectronics

Published on February 26, 2008 at 1:51 PM

Mais de 30 científicos e os papéis técnicos baseados na pesquisa conduzida na Faculdade da Ciência de Nanoscale e da Engenharia (“CNSE”) da Universidade em Albany serão apresentados em uma das conferências principais do mundo centradas sobre a indústria global do nanoelectronics.

Em tudo, 31 papéis serão apresentados na conferência Avançada SPIE da Litografia em San Jose, CA que representam o trabalho executado no Complexo da Albany NanoTech de CNSE por equipas de investigação de CNSE, pelas equipas de investigação dos sócios corporativos globais de CNSE residentes em Albany NanoTech - incluindo o IBM, o AMD, SEMATECH Internacional, ASML, Elétron do Tóquio e Materiais Aplicados - ou pela junção CNSE e partners as equipas de investigação residentes em Albany NanoTech.

Os papéis cobrem uma escala de assuntos e da pesquisa inovativa do esboço na litografia, que é considerada como crítica à fabricação dos dispositivos futuros do nanoelectronics. Incluído entre as áreas técnicas em que as novidades são relatadas são (“EUV”) sistemas ultravioletas extremos, resiste e mascara; materiais e processos da litografia da imersão; e, microlithography óptico.

O Dr. Alain E. Kaloyeros, Vice-presidente e Oficial Administrativo Principal de CNSE, disse, “A apresentação de mais de 30 científicos e papéis técnicos na conferência Avançada SPIE da Litografia baseada na pesquisa executada no Complexo da Albany NanoTech de CNSE demonstra mais o "knowhow" intelectual da mundo-classe e as capacidades técnicas ímpares no UAlbany NanoCollege. A excelência reconhecida deste recurso verdadeiramente original para a educação, a pesquisa, a revelação e a comercialização da alto-tecnologia é um tributo à visão, ao apoio e ao investimento dos cargos eleitos de New York, que criaram um paradigma educacional de abertura de caminhos em CNSE e a revelação de tecnologia acelerada entre as empresas principais do nanoelectronics do mundo.”

O Dr. James G. Ryan, o Vice-presidente do Associado da Tecnologia e o Professor de Nanoscience em CNSE, disseram, “Os papéis científicos e técnicos gerados na Albany NanoTech de CNSE pelo NanoCollege e por nosso relevo corporativo global dos sócios a potência da colaboração entre a academia e a indústria em promover a inovação. Nós estamos seguros que as revelações relatadas em SPIE jogarão um papel importante no esforço para acelerar a introdução de litografia ultravioleta extrema na fabricação.”

A conferência de SPIE, sendo guardarado os 24-29 de fevereiro, atrai milhares de participantes e é considerada o evento técnico o mais importante da indústria da litografia do semicondutor.

Last Update: 14. January 2012 21:57

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