Поток Исследований от Коллежа Науки и Инджиниринга Nanoscale На Конференции Nanoelectronics

Published on February 26, 2008 at 1:51 PM

Больше чем 30 научное и технические бумаги основанные на исследовании дирижированном на Коллеже Науки Nanoscale и Инджиниринга (CNSE) Университета на Albany на одном из конференций мира ведущих сфокусированных на глобальной индустрии nanoelectronics.

В всех, 31 бумага на Выдвинутом SPIE конференции Литографированием в Сан-Хосе, CA которая представляют работу выполненную на Комплексе Albany NanoTech CNSE или научно-исследовательскими группами CNSE, научно-исследовательскими группами соучастников CNSE глобальный корпоративных проживающими на Albany NanoTech - включая IBM, AMD, Международное SEMATECH, ASML, Электрон Токио и Прикладные Материалы - или соединением CNSE и были партнером научно-исследовательские группы проживающие на Albany NanoTech.

Бумаги покрывают ряд тем и исследования плана новаторского в литографировании, которое увидено как критическо к изготавливанию будущих приборов nanoelectronics. Включено среди технических областей в которых сообщены новые разработки весьма ультрафиолетов («EUV») системы, сопротивляет и маскирует; материалы и процессы литографированием погружения; и, оптически microlithography.

Др. Alain E. Kaloyeros, Недостаток - Президент и Главное Должностное Лицо CNSE, сказал, «Представление больше чем 30 научное и технические бумаги на Выдвинутом SPIE конференции Литографированием основанном на исследовании выполненном на Комплексе Albany NanoTech CNSE более добавочно демонстрирует мирового класса интеллектуальный ноу-хау и бесподобные технические возможности на UAlbany NanoCollege. Узнанный высокий профессионализм этого поистине уникально ресурса для высокотехнологичного образования, исследования, развития и коммерциализации дань к зрению, поддержке и облечению выбранных должностных лиц Нью Йорка, которые создавали pioneering воспитательную парадигму на CNSE и ускорять ход развитие технологии среди компаний nanoelectronics мира ведущих.»

Др. Джеймс G. Райан, Связывает Недостаток - Президент Технологии и Профессор Nanoscience на CNSE, сказали, «Научные и технические бумаги произведенные на Albany NanoTech CNSE NanoCollege и нашей глобальный корпоративной подчёркиватью соучастников сила сотрудничества между научным сообществом и индустрией в воспитывать рационализаторство. Мы уверенно что развития сообщенные на SPIE сыграют важную роль в усилии ускорить ход введения весьма ультрафиолетов литографирования в изготавливание.»

Конференция SPIE, держал 24-ое-29 февраля, привлекает тысячи участников и учтено случаем индустрии литографированием полупроводника самым важным техническим.

Last Update: 3. June 2015 09:59

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit