堆从 Nanoscale 科学和工程学院的研究论文将存在的在 Nanoelectronics 会议

Published on February 26, 2008 at 1:51 PM

超过 30 科学和在研究基础上的技术文章开展在学院 Nanoscale 科学和工程 (CNSE) 大学在阿尔巴尼将存在一致于全球 nanoelectronics 行业集中的领先世界的会议。

总计,表示工作进行在 CNSE 的阿尔巴尼 NanoTech 复杂由 CNSE 研究小组,由 CNSE 全球总公司合作伙伴的研究小组常驻在阿尔巴尼 NanoTech 的 31 份论文将被介绍在 SPIE 提前的石版印刷会议在圣荷西,加州 - 包括 IBM、 AMD、国际 SEMATECH、 ASML、东京电子和被应用的材料 - 或由联接 CNSE 和合作伙伴的研究小组常驻在阿尔巴尼 NanoTech。

文件报道主题范围和概述创新研究在石版印刷方面,被看到如重要对将来的 nanoelectronics 设备制造。 包括在新发展计划报告是极其紫外的技术区中 (“EUV”) 系统,抵抗并且屏蔽; 浸没石版印刷材料和进程; 并且,光学 microlithography。

阿兰 E. Kaloyeros,副总统和首席行政官博士 CNSE,说, “介绍超过 30 科学和技术文章在研究基础上的 SPIE 提前的石版印刷会议进行在 CNSE 的阿尔巴尼 NanoTech 复杂进一步展示国际水平的智力技术和不匹配技术功能在 UAlbany NanoCollege。 此正确地唯一资源被认可的优秀高科技教育、研究、发展和商品化的是颂词对纽约的选举官员的远见、技术支持和投资,创建了作早期工作在的培训示例在 CNSE 和在领先世界的 nanoelectronics 公司中的加速的技术开发”。

詹姆斯 G. 赖安博士,技术的关联在 CNSE 的 Nanoscience 副总统和教授,说, “科学和技术文章被生成在 CNSE 的阿尔巴尼 NanoTech 由 NanoCollege 和我们的全球总公司合作伙伴强调协作的功率在学术界和行业之间的在促进创新。 我们确信发展报告在 SPIE 在这个工作成绩将扮演重要作用加速极其紫外石版印刷的简介到制造”。

SPIE 会议,被暂挂 2月 24-29,吸引千位参与者和被认为半导体石版印刷行业的最重要的技术活动。

Last Update: 3. June 2015 09:39

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