在纳米电子学会议将提交论文的洪水从纳米科学与工程学院

Published on February 26, 2008 at 1:51 PM

30多名科学和技术的基础上进行的研究论文在大学奥尔巴尼分校纳米科学与工程学院 ( “CNSE”)将提交世界领先的专注于全球的纳米电子行业会议之一。

在所有的,31文件将被提交在圣圣何塞,CA的代表进行CNSE的奥尔巴尼纳米技术复杂或者CNSE的研究团队的CNSE的全球“企业合作伙伴的研究居住在奥尔巴尼纳米技术团队,工作光学学报高级光刻会议 - 包括IBM AMD,国际SEMATECH,ASML公司,东京电子和应用材料公司 - 联合CNSE和合作伙伴的奥尔巴尼纳米技术研究小组在居民。

这些论文涵盖了各种各样的主题,和轮廓光刻技术的创新,这是为未来的纳米电子器件的制造的关键研究。之间的新的发展报告的技术领域包括极紫外(EUV技术“)系统,抵制和口罩;浸没式光刻技术的材料和工艺,光学光刻。

五Kaloyeros阿兰博士,副总裁兼行政主任CNSE,说:“30多个科学和技术在SPIE先进光刻技术基础上进行的研究在CNSE的奥尔巴尼纳米技术复杂的会议文件的演示,进一步展示了世界一流的智力知道,如何和在UAlbany NanoCollege无与伦比的技术能力。在这个高科技教育的真正独特的资源公认的卓越,研究,开发和商品化是一个的视野,支持和纽约的民选官员的投资致敬,有在CNSE和加速技术的发展,跻身于世界领先的纳米电子公司开拓的教育模式。“

詹姆斯G瑞安,和纳米技术在CNSE教授协理副校长,博士说:“科学和技术的CNSE的奥尔巴尼纳米技术所产生的NanoCollege和我们的全球企业合作伙伴的论文强调学术界与产业界之间的协作的力量促进创新,我们有信心在SPIE报道的发展将发挥重要的作用,努力加快极端紫外线光刻技术引入到生产。“

年2月24-29日举行,光学学报会议,吸引了数以千计的与会者,被认为是半导体光刻技术行业最重要的的技​​术盛会。

Last Update: 4. October 2011 21:11

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