应用的光掩膜清洁的材料集新的标准

Published on April 15, 2008 at 9:50 AM

Applied Materials, Inc. 今天发行了干净其应用的 Tetra™的调制盘,传送无损的行业的唯一的湿干净的系统, >99% 微粒 32nm 和在光掩膜之外的删除效率。 使客户超出 32nm 重要屏蔽清洁应用的说明,紧凑四调制盘干净的系统也规定生产率的一个新的标准,提供四倍处理量所有竞争的系统。

“常规光掩膜清洁系统未能接受有效清洗前进屏蔽的挑战没有损坏他们”,总经理说 Ajay Kumar,应用的材料的’屏蔽铭刻并且清洗产品部。 “我们克服了与四调制盘干净的系统的此技术障碍,使屏蔽制造商完成他们需要的迅速清洁性能,当维护屏蔽功能完整性和相位控制他们的顾客要求时”。

四调制盘干净的系统的卓越的性能,在 45nm 生产环境里已经被验证了,是几创新的结果在清洁工艺。 结合最大化没有损坏屏蔽的光致抗蚀剂和微粒删除的系统性能唯一,灵活的设计和硫磺自由,先进的基于氨的洗涤剂。 所有权统一气蚀 Megasonics™ (UCM)技术均匀地分配能源在整个屏蔽表面,避免传统点来源生成的故障导致的峰值 megasonic [1] 清洗。 四调制盘干净的系统也引入使用一个唯一喷管设计创建小,统一的 NanoDroplet™技术,均匀地分配能源并且帮助 32nm 和在清洁性能之外传送的高动力小滴。

四调制盘干净的系统的基准高处理量由其能力同时对待屏蔽的两边启用,削减在一半的处理时间与其他清洁系统比较。 此功能在每个端启用 extendibility 对将来的屏蔽生成通过允许不同的化学使用,无需混合。 这个系统可以配置以多重处理模块,提供屏蔽制造商能力消灭处理瓶颈和减少循环时间。

四调制盘干净的系统是光掩膜制造和检验解决方法应用的扩展投资组合的一部分。 实际上每个先进的屏蔽界面使用应用的四调制盘铭刻系统在这个世界为 45nm 光掩膜发展和生产。 应用的 Aera2™屏蔽检查系统,今天宣布,使客户立即发现什么模式在这个薄酥饼将被打印。 这些 solutons 将被陈列在应用的材料技术论坛在横滨,日本,在 4月 15日在 SPIE 光掩膜日本期间 2008年。

Last Update: 15. June 2015 08:41

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