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應用的光掩膜清潔的材料集新的標準

Published on April 15, 2008 at 9:50 AM

Applied Materials, Inc. 今天發行了乾淨其應用的 Tetra™的調制盤,傳送無損的行業的唯一的濕乾淨的系統, >99% 微粒 32nm 和在光掩膜之外的刪除效率。 使客戶超出 32nm 重要屏蔽清潔應用的說明,緊湊四調制盤乾淨的系統也規定生產率的一個新的標準,提供四倍處理量所有競爭的系統。

「常規光掩膜清潔系統未能接受有效清洗前進屏蔽的挑戰沒有損壞他們」,總經理說 Ajay Kumar,應用的材料的』屏蔽銘刻并且清洗產品部。 「我們克服了與四調制盤乾淨的系統的此技術障礙,使屏蔽製造商完成他們需要的迅速清潔性能,當維護屏蔽功能完整性和相位控制他們的顧客要求時」。

四調制盤乾淨的系統的卓越的性能,在 45nm 生產環境裡已經被驗證了,是幾創新的結果在清潔工藝。 結合最大化沒有損壞屏蔽的光致抗蝕劑和微粒刪除的系統性能唯一,靈活的設計和硫磺自由,先進的基於氨的洗滌劑。 所有權統一氣蝕 Megasonics™ (UCM)技術均勻地分配能源在整個屏蔽表面,避免傳統點來源生成的故障導致的峰值 megasonic [1] 清洗。 四調制盤乾淨的系統也引入使用一個唯一噴管設計創建小,統一的 NanoDroplet™技術,均勻地分配能源并且幫助 32nm 和在清潔性能之外傳送的高動力小滴。

四調制盤乾淨的系統的基準高處理量由其能力同時對待屏蔽的兩邊啟用,削減在一半的處理時間與其他清潔系統比較。 此功能在每個端啟用 extendibility 對將來的屏蔽生成通過允許不同的化學使用,无需混合。 這個系統可以配置以多重處理模塊,提供屏蔽製造商能力消滅處理瓶頸和減少循環時間。 關於乾淨應用的四的調制盤的更多信息,訪問 www.appliedmaterials.com/products/reticle_clean_4.html

四調制盤乾淨的系統是光掩膜製造和檢驗解決方法應用的擴展投資組合的一部分。 實際上每個先進的屏蔽界面使用應用的四調制盤銘刻系統在這個世界為 45nm 光掩膜發展和生產。 應用的 Aera2™屏蔽檢查系統,今天宣佈,使客戶立即發現什麼模式在這個薄酥餅將被打印。 這些 solutons 將被陳列在應用的材料技術論壇在橫濱,日本,在 4月 15日在 SPIE 光掩膜日本期間 2008年。 訪問 www.appliedmaterials.com/2008_PMJ

Last Update: 23. January 2012 15:29

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