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NanoInk 宣布他们将包括在他们的 NSTI 讨论会的事宜

Published on May 14, 2008 at 3:27 AM

NanoInk 宣布他们的讨论会的谈话充分和各种各样的列表在共同利益在扩展方法在请直接写 nanoscale 制造和从这些功能的认识到应用的研究员的 NSTI。 考虑垂度笔 Nanolithography® (DPN®) 和其他扫描探测 Lithographies, Microcontact 打印和喷墨机打印 (除了别的以外),这个讨论会下决心测试在自下向上和自顶向下极小制作的重叠的利息。

NanoInk 多个探测的高分辨率图象。

这个讨论会 (6月 3日) 将构成 NSTI Nanotech 2008年活动的扩展程序的部分在波士顿将暂挂的, 6月 1-5,在 Hynes 会议中心。

这个程序在美国和欧洲以从主导的研究小组的报告人为特色。 主要报告人在多种事宜将提供答案。 为他的发现是著名的和在垂度笔 nanolithography 的作早期工作在工作,并且讨论其功能、应用和远期挑战的西北大学的乍得 Mirkin 教授。

Vinayak Dravid 教授,将报告关于他的在 “老”材料的工作, “新的”窍门他将说明站点和形状特定 nanopatterning 多功能氧化物的地方。

加州大学欧文分校的 Kumar Wickramasinghe 教授,注意为他的在设立扫描探测技术的工作,当与 IBM 时,与基本强制显微学讨论他的适用超速的电泳法和处理在 nanoscale 的工作。

当谈话查看许多不同的材料 - 从生理传感器和催化剂到低聚核苷酸和催化剂,参与者被承诺显示成长的重要性的许多破土应用请直接写 nanoscale 制造技术。

Last Update: 14. January 2012 17:35

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