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基本层证言反应器制造商, Picosun,从美国大学获得命令

Published on June 4, 2008 at 1:34 PM

在波士顿和展览会暂挂的 2008 个 NSTI 纳米技术会议,马萨诸塞,芬兰基本层证言 (ALD)反应器制造商 Picosun Oy 今天宣布了其旗舰 SUNALE™ R 串联提前的 ALD 研究用反应器的三个新的指令从三所导致的美国大学。

“Picosun 人事部在 200 年联合的 ALD 经验期间拥有。 公司 CTO 斯芬 Lindfors 不断地设计 ALD 反应器自 1975年以来和 ALD 方法的实际发明者,图奥莫 Suntola 博士担当理事的成员 Picosun 的。 其无敌的经验 Picosun 是其中一个纳米技术最保管妥当的秘密近年来,但是客户利息现在培养它对 ALD 展开的最前方”,查尔斯 L. Dezelah, Picosun 的美国运算的总经理博士说。

“我是 Picosun 的北美洲商业离开了的非常愉快的速度”, Dezelah 说的查尔斯。 “Picosun 的少于一年开门了美国办公室前。 我们已经安装了 ALD 反应器在几地点在我们的三个新的客户的美国名字将被发布的客户,一旦他们的反应器被安装了并且被审批了为使用”。

Last Update: 14. January 2012 17:08

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