AVS ALD 2008, la 8va Conferencia Internacional sobre la Deposición Atómica de la Capa celebrada en Brujas, Bélgica, se convirtió en un paso de progresión convincentemente hacia adelante para Picosun Oy, el fabricante Atómico Finlandés del reactor (ALD) de la Deposición de la Capa. “Registramos un aumento impresionante en el interés de la gente en el Conjunto de Picosun, la combinación de la dotación física, software, entrenamiento, consultando y las soluciones del servicio ofrecidas por la compañía,” dice Juhana Kostamo, Director de Gerente de Picosun.
“Como un resultado directo de nuestro funcionamiento durante la Conferencia, nosotros recibió unas tres docena preguntas extremadamente serias de la comunidad científica, las instituciones de investigación y los diversos negocios,” Juhana Kostamo dice.
“He dicho a menudo que nuestra estrategia del edificio un asiento firme en los productos de la primera clase y los primeros clientes de la fila que informan otras de la calidad de nuestro conjunto va a ser una fórmula para el éxito sin precedente. Me plazco decir que ahora estamos viendo señales sin obstrucción de esto, a” Sr. Kostamo digo.
Durante la conferencia de ALD, Picosun Oy reintrodujo al inventor del método de ALD, el Doctor Tuomo Suntola, a una nueva generación entera de ALD-entusiastas. Picosun también presentó con éxito al proyectista más experimentado de los sistemas de ALD, Sr. Sven Lindfors del mundo, a la comunidad global ancha de ALD. Hoy, Suntola es Pieza de la Junta Directiva Y Lindfors es Principal Oficial de la Tecnología de Picosun.
La “Gente en la conferencia pedía real autógrafos del Dr. Suntola y Sven Lindfors. Y, de hecho, ella es las estrellas del mundo de ALD, remontándose su cooperación única a los días más tempranos del método,” dice Juhana Kostamo.
Daniel Lewis Ray, de la Universidad de Colorado en Boulder, elogió recientemente al Dr. Suntola como el inventor del dorso del método de ALD en 1974 en su artículo del proyector orientable en www.nanowerk.com, y continuó decir: “A Pesar De la invención hace más de tres décadas, la técnica de la deposición atómica de la capa está continuando avance y promete celebrar los centenares del clave quizás de adelantos futuros. De la creación de nuevas o más efectivas substancias químicas al revelado de ordenadores mecánicamente impulsados, todo sugiere que el papel de ALD en nanotecnologÃa y nanoscience continuará solamente crecer.”