AVS标准的ALD原子层沉积在布鲁日举行的第八届国际会议，2008年，比利时，成为一个有说服力的一步向前Picosun Oy公司 ，芬兰的原子层沉积（ALD）的反应堆制造商。 “我们注册人的利益Picosun包，由该公司提供的硬件，软件，培训，咨询和服务解决方案的结合，在显着增加，说：”Juhana Kostamo总经理Picosun董事。
“直接导致了我们在会议期间的表现，我们收到了来自科学界，研究机构和各商业企业约三十几极其严重的查询，”Juhana Kostamo说。
“我经常说，我们建立一个坚实的基础上一流的产品和告诉他人我们的包质量的第一层客户的战略将是一个空前的成功公式。 Kostamo说，“先生，我很高兴地说，我们现在看到的这种明显的迹象。
ALD的会议期间，Picosun Oy公司重新推出的发明ALD的方法，博士脱膜Suntola，ALD的爱好者一个全新的新一代。 Picosun还成功引进了世界上的ALD系统，埃里克森Lindfors先生，最有经验的的设计师广泛的全球ALD的社会。今天，Suntola是董事会董事及Lindfors委员是Picosun的首席技术执行官。
“人在会上要求博士Suntola和埃里克森Lindfors的签名。而且，事实上，他们是ALD的世界明星，其独特的合作回约会的方法最早的天，说：“Juhana Kostamo。
从科罗拉多大学博尔德分校，丹尼尔刘易斯雷，最近称赞为ALD的方法，早在1974年他在聚光灯文章www.nanowerk.com的发明者Suntola博士接着说：“尽管被发明多三十年来，原子层沉积技术是继续推进并承诺举行的关键，也许上百个未来的进步。从建立新的或更有效的化学品的机械驱动的计算机的发展，一切都表明，ALD的纳米技术和纳米科学的作用只会继续增长。“