KLA-Tencor Stellt Späteste Version des ComputerLithographie-Hilfsmittels vor

Published on July 11, 2008 at 11:33 AM

Heute stellte KLA-Tencor die späteste Version seines Industrie-führenden Computerlithographiehilfsmittels, PROLITH (TM) 11. vor. Das neue Hilfsmittel aktiviert Benutzer zum ersten Mal, aktuelle doppel-kopierende Entwürfe auszuwerten und abwechselnde Lösungen zu den Lithographieherausforderungen in der Auslegung, in den Materialien und in der Verfahrensentwicklung kosteneffektiv zu erforschen. Dieses neue Computerlithographiehilfsmittel unterstützt auch kopieren und Immersionseinpassagentechnologien.

„Das Auftauchen der doppel-kopierenden Lithographie hat Schaltungsdesigner und Chip-Hersteller wegen der dramatischen Zunahme in der Lithographiekomplexität und in den experimentellen Kosten,“ beachteter Ed Charrier, Vizepräsident und Generaldirektor KLA-Tencors von der Prozesskontrollierten Informations-Abteilung angefochten. „Computerlithographie ist ein wesentliches Hilfsmittel für die Steuerung dieser Kosten geworden. Unter Computerlithographiehilfsmitteln hat PROLITH 11 die eindeutige Fähigkeit, Ingenieuren zu erlauben, große Auswahlen von Auslegungs-, materiellen oder Prozessbedingungen zu erforschen, um ein bestimmtes Problem zu lösen -- ohne zu müssen, die Betriebsmittel von einem tollen auszugeben.“

Doppel-Kopierende Lithographie (DPL) ist eine Methode für das Konstruieren der kleinen Merkmale aus hoch entwickelten Einheiten, indem sie das Muster in zwei ineinandergeschachtelte Muster unterteilt. Dies heißt, dass ein doppeltes Maskenset und neuen Fotoresistmaterialien für DPL-Schichten, verstärkende Prozesskomplexität und Kosten gefordert werden. Wenn die Experten den Preis voraussagen, eines Maskensets, um $4M am Knotenpunkt 32nm zu überschreiten, werden fabs stark motiviert, um gänzlich zu kennzeichnen, wie ein in zwei Durchläufen, Doppelmaske, Strategie druckt auf dem Wafer unter der natürlichen Reichweite der Prozessbedingungen, Doppel-widerstehen damit die Maske konstruiert, Materialien und Prozessparameter das erste mal recht sind.

PROLITH 11 erlaubt Ingenieuren, dieses komplexe System mit beispielloser Präzision zu formen und verwendet dann das Baumuster, um die Anlage zu optimieren, indem es die Effekte von kleinen oder großen Änderungen in der Maskenauslegung, in den Fotoresisteigenschaften und in den Scanner- oder Prozessparametern auf das Druckmuster erforscht. Indem sie PROLITH 11 verwenden, vermeiden fabs die Zeit raubenden, teuren Experimente auf Produktwafers, die Verzögerungszeit zum Markt und Ergebnis in den Tausenden der verschrotteten aufbereiteten Wafers.

Als ein Hilfsmittel in einer kompletten Reihe von Anlagen von KLA-Tencor konstruierte, hoch entwickelte Lithographieherausforderungen, PROLITH 11 anzusprechen ist versendet worden zu führenden Chip-Herstellern in den US, im Japan und im Taiwan. Die PROLITH-Plattform enthält den weit verbreitetsten Lithographiesimulation Toolset auf dem Markt, eingebaut in die Entwicklungsgruppen praktisch jedes Chip-Herstellers, der aktuell Einheiten 65nm und 45nm produziert.

TECHNOLOGIE-ZUSAMMENFASSUNG PROLITH 11

Grundlegende und Rigorose Berechnungen

  • PROLITH 11 ist der einzige Lithographiesimulator, zum des Topographiebesonderen zu formen, um das Kopieren zu verdoppeln und zu berechnen, wie Variabilität im Drucken die erste Schicht die zweite Schicht beeinflussen könnte.
  • Ergebnisse PROLITH 11 basieren auf grundlegenden optischen und kinetischen Baumustern.
  • PROLITH kann anpassen:
  • Komplexe Filmstapel
  • Eingebettete Substratflächentopographie
  • PROLITH 11 widerstehen Baumustern können unter Verwendung der Daten von IS kalibriert werden herstellt, widersteht Verkäufern, Forschungsgruppen und Konsortien.

Extrapolation von Ergebnissen für das Lösen Von Problemen

  • Das Baumuster PROLITH 11 kann verwendet werden, um zu erforschen:
  • Neue Maskenauslegungen
  • Neue Photoresists
  • Verschiedene Scanner-Einstellungen
  • Verschiedene Prozessparameter

Ergänzende Voll-Chip Simulatoren
Ergänzende Vollchip Simulatoren, die konstruiert werden, um ein gesamtes Chip in weniger als 24 Stunden zu optimieren, PROLITH formt einen kleinen Bereich der Form im gesamten Detail in ein paar Minuten. Während die Ergebnisse Vollchip Simulatoren auf ein Set Auslegung und Prozessbedingungen zutreffen, können PROLITH-Ergebnisse von den Bedingungen beträchtlich extrapoliert werden, unter denen das Baumuster erzeugt wurde, damit verschiedene Lösungen erforscht werden können. PROLITH-Ergebnisse können verwendet werden, um die optimalen Bedingungen zu bestimmen, unter denen Vollchip Simulatoren ausgeführt werden.

Last Update: 17. January 2012 00:29

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit