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KLA-Tencor presenta la última versión de la herramienta de Litografía Computacional

Published on July 11, 2008 at 11:33 AM

Hoy KLA-Tencor presentó la última versión de su líder en la industria de herramientas de litografía de cálculo, PROLITH (TM) 11. La nueva herramienta permite a los usuarios por primera vez para evaluar los actuales patrones de dos esquemas y rentable explorar soluciones alternativas a los desafíos de la litografía en el diseño, los materiales y el proceso de desarrollo. Esta nueva herramienta de litografía de cálculo también es compatible con un solo paso los patrones y las tecnologías de inmersión.

"La aparición de la litografía doble patrón ha desafiado a los diseñadores de circuitos y los fabricantes de chips por el espectacular aumento en la complejidad de la litografía y los costos de experimentación", señaló Ed Charrier, vicepresidente y gerente general de la División de KLA-Tencor de Información de Control de Procesos. "La litografía de cómputo se ha convertido en una herramienta esencial para el control de los costes entre las herramientas de litografía de cálculo, PROLITH 11 tiene la capacidad única de permitir a los ingenieros a explorar una amplia serie de condiciones de diseño, material o proceso con el fin de resolver un problema particular -. Sin tener que gastar los recursos de una fabulosa. "

Doble patrón de la litografía (DPL) es un método para la construcción de las características pequeñas de dispositivos avanzados de dividir el patrón en dos patrones entrelazados. Esto significa que un conjunto de doble máscara y nuevos materiales fotosensible se requieren para las capas de DPL, ampliando la complejidad del proceso y el costo. Con los expertos predicen que el precio de una máscara de conjunto superior a 4 millones de dólares en el nodo de 32 nm, fábricas están muy motivados para caracterizar a fondo cómo una de dos pasos, de doble máscara, doble estrategia de resistencia se imprime en la oblea en el área de distribución natural del proceso de condiciones, por lo que los diseños de máscaras, los materiales y parámetros del proceso son el derecho de la primera vez.

PROLITH 11 permite a los ingenieros modelar este sistema complejo, con una precisión sin precedentes, y luego utilizar el modelo para optimizar el sistema mediante la exploración de los efectos de los pequeños o grandes cambios en el diseño de la máscara, las propiedades fotosensible, y los parámetros del escáner o el proceso en el patrón impreso. Mediante el uso de PROLITH 11, fábricas de evitar largos, costosos experimentos en las obleas de los productos que retrasan el tiempo de comercialización y como resultado miles de desguace obleas procesadas.

Como una herramienta en una suite completa de sistemas de KLA-Tencor diseñados para abordar los desafíos avanzadas de litografía, PROLITH 11 ha sido enviado a los fabricantes de chips líderes en los EE.UU., Japón y Taiwán. La plataforma PROLITH comprende el conjunto de herramientas de litografía de simulación más utilizado en el mercado, instalado en los grupos de desarrollo de casi todos los chips en la actualidad la fabricación de dispositivos de 65 nm y 45 nm.

PROLITH 11 Resumen de la tecnología

Cálculos fundamentales y riguroso

  • PROLITH 11 es el simulador de la litografía sólo para modelar la topografía específica para duplicar los patrones y calcular la variabilidad en la impresión de la primera capa podría afectar a la segunda capa.
  • PROLITH 11 resultados se basan en modelos fundamentales óptico y cinético.
  • PROLITH puede alojar:
  • Las pilas de complejos de cine
  • Sustrato incorporado topografía
  • PROLITH 11 resistir los modelos pueden ser calibrados con datos de IC fabrica, se resisten a los proveedores, los grupos y consorcios de investigación.

La extrapolación de los resultados para la solución de problemas

  • El 11 PROLITH modelo puede ser utilizado para explorar:
  • Los nuevos diseños de la máscara
  • Nueva fotosensibles
  • Diferentes configuraciones del escáner
  • Parámetros diferentes procesos

Complementarios en Full-Chip Simuladores
Como complemento a todo el chip de simuladores, que están diseñados para optimizar un chip todo en menos de 24 horas, los modelos PROLITH una pequeña zona de la muerte con todo detalle en unos minutos. Aunque los resultados de todo el chip de simuladores se aplican a un conjunto de diseño y las condiciones del proceso, los resultados pueden ser extrapolados PROLITH significativamente de las condiciones en que se ha generado el modelo, por lo que varias soluciones pueden ser exploradas. Resultados PROLITH se puede utilizar para determinar las condiciones óptimas en las que todo el chip de simuladores se ejecutan.

Last Update: 4. October 2011 04:11

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