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KLA-Tencor Introduz a Versão A Mais Atrasada da Ferramenta Computacional da Litografia

Published on July 11, 2008 at 11:33 AM

Hoje KLA-Tencor introduziu a versão a mais atrasada de sua ferramenta computacional líder de mercado da litografia, PROLITH (TM) 11. A nova ferramenta permite usuários pela primeira vez de avaliar esquemas demodelação actuais e o custo-eficaz explora soluções alternativas aos desafios da litografia no projecto, nos materiais e na revelação de processo. Esta ferramenta computacional nova da litografia igualmente apoia tecnologias da modelação e da imersão da único-passagem.

“A emergência da litografia demodelação desafiou desenhistas do circuito e fabricantes de chips devido ao aumento acentuado na complexidade da litografia e em custos experimentais,” Ed notável Charrier, vice-presidente e director geral da Divisão Controle de Processos da Informação de KLA-Tencor. “A litografia Computacional transformou-se uma ferramenta essencial para controlar estes custos. Entre ferramentas computacionais da litografia, PROLITH 11 tem a capacidade original para permitir que os coordenadores explorem vastas gamas de condições do projecto, do material ou de processo a fim resolver um problema particular -- sem ter que gastar os recursos de um fabuloso.”

a litografia deModelação (DPL) é um método para construir as características pequenas de dispositivos avançados dividindo o teste padrão em dois testes padrões intercalados. Isto significa que um grupo dobro da máscara e uns materiais novos do fotoresistente estão exigidos para camadas de DPL, a complexidade de amplificação do processo e o custo. Com os peritos que prevêem o preço de um grupo da máscara para exceder $4M no nó 32nm, os fabs são fortemente motivado caracterizar completamente como uma dois-passagem, dobro-máscara, duplo-resiste a estratégia imprimirá na bolacha sob a escala natural de condições de processo, de modo que a máscara projecte, materiais e parâmetros de processo é direito a primeira vez.

PROLITH 11 permite que os coordenadores modelem este sistema complexo com precisão inaudita, e usa então o modelo para aperfeiçoar o sistema explorando os efeitos de mudanças pequenas ou grandes no projecto da máscara, nas propriedades do fotoresistente, e nos parâmetros do varredor ou de processo no teste padrão impresso. Usando PROLITH 11, os fabs evitam experiências demoradas, caras nas bolachas do produto que tempo de atraso ao mercado e resultado nos milhares de bolachas processadas desfeitas.

Como uma ferramenta em uma série completa dos sistemas de KLA-Tencor projectou endereçar os desafios avançados da litografia, PROLITH 11 foi enviado aos fabricantes de chips principais nos E.U., no Japão e no Taiwan. A plataforma de PROLITH compreende o conjunto de ferramentas o mais amplamente utilizado da simulação da litografia no mercado, instalado nos grupos da revelação de virtualmente cada fabricante de chips que produz actualmente os dispositivos 65nm e 45nm.

SUMÁRIO DA TECNOLOGIA DE PROLITH 11

Cálculos Fundamentais e Rigorosos

  • PROLITH 11 é o único simulador da litografia para modelar o específico da topografia para dobrar a modelação e calcular como a variabilidade na impressão a primeira camada poderia afectar a segunda camada.
  • Os resultados de PROLITH 11 são baseados em modelos ópticos e cinéticos fundamentais.
  • PROLITH pode acomodar:
  • Pilhas Complexas do filme
  • Topografia Encaixada da carcaça
  • PROLITH 11 resistem modelos podem ser calibrados usando dados do IC fabricam, resistem vendedores, grupos de investigação e consórcios.

Extrapolação dos Resultados para a Resolução de Problemas

  • O modelo de PROLITH 11 pode ser usado para explorar:
  • Projectos Novos da máscara
  • Fotoresistente Novos
  • Ajustes Diferentes do varredor
  • Parâmetros de processo Diferentes

Simuladores Complementares da Completo-Microplaqueta
Os simuladores Complementares da completo-microplaqueta, que são projectados aperfeiçoar uma microplaqueta inteira em menos de 24 horas, PROLITH modelam uma área pequena do dado no detalhe completo em poucos minutos. Quando os resultados de simuladores da completo-microplaqueta se aplicarem a um grupo de condições do projecto e de processo, os resultados de PROLITH podem ser extrapolados significativamente das condições sob que o modelo foi gerado, de modo que as várias soluções pudessem ser exploradas. Os resultados de PROLITH podem ser usados para determinar as circunstâncias as melhores sob que os simuladores da completo-microplaqueta são executados.

Last Update: 14. January 2012 19:45

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