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KLA-Tencor 引入计算石版印刷工具的最新的版本

Published on July 11, 2008 at 11:33 AM

今天 KLA-Tencor 引入其领先业界的计算石版印刷工具, PROLITH (TM) 11. 的最新的版本。 新工具第一次使用户评估当前二重仿造的模式和有效测试备选解决方法到在设计、材料和工艺过程开发的石版印刷挑战。 此新的计算石版印刷工具也支持单遍仿造和浸没技术。

由于急剧增加 “二重仿造的石版印刷诞生在石版印刷复杂和实验费用,向电路设计员和芯片制造商挑战”,注意的爱德 Charrier,副总统和总经理 KLA-Tencor 的程序控制的信息分部。 “计算石版印刷成为为控制这些费用的一个重要工具。 在计算石版印刷工具中, PROLITH 11 有唯一能力允许工程师测试大范围设计,物质或者处理条件为了解决一个特殊问题 -- 而不必花费资源很好”。

二重仿造的石版印刷 (DPL)是修建的小的功能一个方法先进的设备通过分开这个模式成二个被插入的模式。 这意味着双屏蔽集和新的光致抗蚀剂材料对于 DPL 层、放大的处理复杂和费用是必需的。 当专家预测屏蔽集的价格超出 $4M 在这个 32nm 节点, fabs 严格被刺激十分地分析二路式,二重屏蔽,如何在这个薄酥饼双重抵抗方法将打印在处理条件下的自然范围,因此屏蔽设计,材料,并且过程参数第一次是合适的。

PROLITH 11 允许工程师塑造与史无前例的精确度的此复杂系统,然后使用这个设计通过测试小或大变化的作用优选这个系统在屏蔽设计、光致抗蚀剂属性和扫描程序或过程参数上的对这个被打印的模式。 通过使用 PROLITH 11, fabs 避免在延迟在千位的上市时间和结果被报废的被处理的薄酥饼的产品薄酥饼的费时,消耗大的实验。

作为一个工具在系统一个完全套件从 KLA-Tencor 的设计解决先进的石版印刷挑战, PROLITH 11 被发运了对主导的芯片制造商在美国、日本和台湾。 PROLITH 平台包括在这个市场上的最用途广泛的石版印刷模拟成套工具,安装在当前导致 65nm 和 45nm 设备的发展组实际上每个芯片制造商。

PROLITH 11 技术汇总

根本和严谨计算

  • PROLITH 11 是塑造地势特定的唯一的石版印刷模拟程序加倍仿造和计算在打印的可变性第一块层如何可能影响第二块层。
  • PROLITH 11 结果在根本光学和运动设计基础上。
  • PROLITH 可能适应:
  • 复杂影片栈
  • 嵌入基体地势
  • PROLITH 11 抵抗设计可以被校准使用从集成电路的数据制造,抵抗供营商、研究小组和财团。

结果的推测解决问题的

  • PROLITH 11 设计可以用于测试:
  • 新的屏蔽设计
  • 新的光致抗蚀剂
  • 不同的扫描程序设置
  • 不同的过程参数

补充全筹码模拟程序
补充全筹码模拟程序,在少于 24 时数被设计优选一个整个筹码, PROLITH 在几分钟之内塑造彀子的一个小范围在所有详细资料的。 当全筹码模拟程序的结果适用于一套设计和处理条件时, PROLITH 结果可以从设计被生成的条件显著被外推,因此多种解决方法可以测试。 PROLITH 结果可以用于确定全筹码模拟程序运行的最佳条件。

Last Update: 14. January 2012 16:40

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