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Posted in | Microscopy | Nanoanalysis

卡爾蔡司SMT在顯微鏡展覽展示了新的掃描電鏡類

Published on August 5, 2008 at 11:24 AM

卡爾蔡司SMT在顯微鏡和微量分析在新墨西哥州阿爾伯克基舉行的會議和展覽,推出了一個新的掃描電鏡類:SIGMA 。易於使用和領先的X -射線和解析幾何類客戶的需求日益增長的中心舞台,當產品的開發。

圍繞獨特的雙子座技術:SIGMA新的掃描電鏡類。

對 SIGMA,採用卡爾蔡司獨特和成熟的GEMINI ®技術,提供卓越的成像和來自一個有能力來處理所有類型的材料場發射顯微鏡的分析結果。材料分析在高分辨率提供一流的X射線能量和波長色散光譜(EDS和WDS)的幾何。

適馬可以處理直徑 250毫米和145毫米高的最多的標本。此外,共面腔設計提供了理想的幾何形狀同時 EDS和電子背散射衍射(EBSD)。

雙子座 ®作為市場領先的場發射設計,提供無與倫比的易於使用,精湛的低電壓成像和分析應用的超穩定的探針電流。

Last Update: 7. October 2011 13:52

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