SEMATECH Benennt Direktor und Stellvertretenden Direktor seiner Lithographie-Abteilung

Published on September 10, 2008 at 10:58 PM

SEMATECH kündigte heute an, dass anerkannter Technologen Dr. Bryan J. Rice und Dr. Stefan Wurm Direktor und Stellvertretenden Direktor seiner Lithographie-Abteilung benannt worden sind. Sie sind für das Versichern verantwortlich, dass strategische Richtung und seine Ausführung SEMATECHS kritische Lithographietechnologiebereiche unterstützen.

Dr. Reis, der kürzlich als der ImmersionsProjektleiter diente, tauscht ehemaligen Direktor Michael Lercel aus, der zu IBM von seiner SEMATECH-Aufgabe zurückgekommen ist. Reis ist auf Aufgabe zu SEMATECH von Intel Corporation seit 2006 gewesen. Er hat Index-Immersionsforschung SEMATECHS hohe in der Recherche nach hohen Brechungskoeffizient-Objektiv- und Immersionsflüssigkeitsmaterialien geführt. Zusätzlich ist Reis instrumentell gewesen, wenn er das Doppelbelichtungsprogramm SEMATECHS bildete und auf die Erforschung von neuen Materialien für den Litho-lithoätzung kopierenden Anflug sich konzentrierte.

Reis hält ein Doktorat in der Kernphysik von Duke University sowie ein Bachelor-Abschluss in der Physik und ein Magister-Abschluss in der Informatik von der Georgia-Fachhochschule An. Er hat elf US-Patente gemacht und der Autor von zahlreichen Veröffentlichungen auf Lithographie und Metrologie ist--.

Dr. Wurm, der kürzlich als extremer ultravioletter Projektleiter (EUV) SEMATECHS diente, hat EUV-Strategie SEMATECHS für mehr als vier Jahre geführt. Er ist instrumentell gewesen, wenn er das Programm SEMATECH EUV formte und verwies, das weltweite EUV-Infrastrukturfähigkeiten und -technologie zur Verfügung stellt, die zu SEMATECH-Bauteilen lernt. Er hat mehr als 20 Jahre Industrie und R&D-Erfahrung und hat angehaltene Stellungen in der Technologieentwicklung bei Siemens Halbleitern, Infineon und Qimonda. Wurm ist auf Aufgabe von Advanced Micro Devices, die er vor kurzem als Allgemeines Bauteil des Technischen Personals verband.

Wurm hält ein Doktorat in der Physik vom Technische Universität München, Deutschland an. Er hat mehr als zehn US-- und non-U.S.patente gemacht und der Autor von den mehrfachen Veröffentlichungen ist--, die Lithographie, Grundlagenforschung, Halbleitertechnik und die Herstellung umfassen.

Last Update: 14. January 2012 20:30

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