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SEMATECH Noms directeur et directeur adjoint de la Division de lithographie

Published on September 10, 2008 at 10:58 PM

SEMATECH a annoncé aujourd'hui que le Dr Bryan technologues reconnus J. Rice et le Dr Stefan Wurm ont été nommés directeur et directeur adjoint de la Division de lithographie. Ils seront responsables de s'assurer que l'orientation stratégique de SEMATECH et son exécution soutien critique zones technologie de lithographie.

Mme Rice, qui a récemment servi comme directeur du programme d'immersion, remplace l'ancien directeur Michael Lercel, qui est retourné à IBM de son affectation SEMATECH. Rice a été sur la cession à SEMATECH d'Intel Corporation depuis 2006. Il a dirigé SEMATECH de recherche de haut indice de l'immersion dans la recherche de lentilles à indice de réfraction élevé et des matières fluides d'immersion. Par ailleurs, Mme Rice a joué un rôle dans la formation du programme SEMATECH double exposition, en se concentrant sur l'exploration de nouveaux matériaux pour l'approche patterning litho-litho-gravure.

Riz détient un doctorat en physique nucléaire de l'Université Duke ainsi que d'un baccalauréat en physique et une maîtrise en science informatique de l'Institut de Technologie de Géorgie. Il a fait onze brevets américains et est l'auteur de nombreuses publications sur la lithographie et la métrologie.

Dr Wurm, qui a récemment servi comme ultraviolet extrême SEMATECH (EUV) gestionnaire de programme, a conduit la stratégie de SEMATECH EUV pour plus de quatre ans. Il a contribué à façonner et diriger le programme SEMATECH EUV qui fournit dans le monde entier les capacités d'infrastructure et la technologie EUV d'apprentissage aux membres de SEMATECH. Il a plus de 20 ans de l'industrie et de R & D d'expérience et a occupé des postes dans le développement technologique au sein de Siemens Semiconductors, Infineon et Qimonda. Wurm sera sur la cession de Advanced Micro Devices dont il a récemment rejoint en tant que membre principal du personnel technique.

Wurm titulaire d'un doctorat en physique de la Technische Universität München, Allemagne. Il a fait plus de dix brevets américains et non américains et est l'auteur de plusieurs publications couvrant la lithographie, la technologie fondamentale de semi-conducteurs de recherche et de fabrication.

Last Update: 22. October 2011 23:21

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