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SEMATECH Nomeia o Director e o Director Adjunto de sua Divisão da Litografia

Published on September 10, 2008 at 10:58 PM

SEMATECH anunciou hoje que o Dr. reconhecido Bryan J. Arroz dos tecnólogos e o Dr. Stefan Wurm estiveram nomeados Director e Director Adjunto de sua Divisão da Litografia. Serão responsáveis para assegurar que o sentido estratégico e sua execução de SEMATECH apoiam áreas críticas da tecnologia da litografia.

O Dr. Arroz, que serviu recentemente como o gestor de programa da imersão, substitui o Director anterior Michael Lercel, que retornou ao IBM de sua atribuição de SEMATECH. O Arroz estêve na atribuição a SEMATECH de Intel Corporation desde 2006. Conduziu a pesquisa alta da imersão do deslocamento predeterminado de SEMATECH na busca para materiais altos da lente do R.I. e do líquido da imersão. Adicionalmente, o Arroz foi instrumental em formar o programa da exposição dobro de SEMATECH, centrando-se sobre a exploração de materiais novos para a aproximação de modelação da litho-litho-gravura em àgua forte.

O Arroz guardara um doutoramento na física nuclear de Duke University assim como um diploma de licenciado na física e um diploma de mestre na informática do Instituto de Tecnologia de Geórgia. Fez onze patentes dos E.U. e é o autor de publicações numerosas na litografia e na metrologia.

O Dr. Wurm, que serviu recentemente como o gestor de programa ultravioleta extremo (EUV) de SEMATECH, conduziu a estratégia do EUV de SEMATECH por mais de quatro anos. Foi instrumental em dar forma e em dirigir ao programa de SEMATECH EUV que fornece capacidades mundiais e a tecnologia da infra-estrutura de EUV que aprendem aos membros de SEMATECH. Tem mais de 20 anos de indústria e de experiência do R&D e tem posições guardaradas na revelação de tecnologia em Semicondutores, em Infineon e em Qimonda de Siemens. Wurm estará na atribuição de Advanced Micro Devices a que se juntou recentemente como um Membro Principal do Pessoal Técnico.

Wurm guardara um doutoramento na física do Technische Universität München, Alemanha. Fez mais de dez patentes dos E.U. e do non-U.S. e é o autor das publicações múltiplas que cobrem a litografia, a pesquisa fundamental, a tecnologia de semicondutor e a fabricação.

Last Update: 14. January 2012 17:23

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